[发明专利]含显影性增强化合物的辐射敏感性元件有效

专利信息
申请号: 200880121530.4 申请日: 2008-12-05
公开(公告)号: CN101903177A 公开(公告)日: 2010-12-01
发明(设计)人: M·勒瓦农;M·纳卡什 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: B41C1/10 分类号: B41C1/10;B41M5/36
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 赵苏林;艾尼瓦尔
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 显影 增强 化合物 辐射 敏感性 元件
【说明书】:

发明领域

本发明涉及含独特显影性增强化合物的正性工作可成像元件。本发明还涉及使这些元件成像而提供可以用作平版印刷板的成像元件的方法。

发明背景

在平版印刷中,油墨接受区(称为图像区域)在亲水性表面上产生。当表面用水润湿并施用油墨时,该亲水区保持水并排斥油墨,油墨接受区接受油墨并排斥水。然后将油墨转移到其上将复制图像的适合材料的表面上。在某些情况下,可以首先将油墨转移到中间转印布上,它进而用于将油墨转移到其上将复制图像的材料的表面上。

可用于制备平版印刷(或胶版)印刷板的可成像元件通常包含一个或多个施加在基材(或中间层)的亲水性表面上的可成像层。该可成像层(或多层)可以包含分散于适合的粘结剂内的一种或多种辐射敏感性组分。在成像之后,通过适合的显影剂将可成像层(或多层)的曝光区或未曝光区除去,而使基材的基础性的亲水性表面露出。如果除去曝光区域,则元件被认为是正性工作的。反之,如果除去未曝光区域,则元件被认为是负性工作的。在每种情况下,可成像层(或多层)的保留区域是油墨接受性的,而通过显影过程露出的亲水表面的区域接受水或含水溶液(通常是润版溶液)并排斥油墨。

类似地,正性工作组合物可以用来在印刷电路板(PCB)制造、厚膜和薄膜电路、电阻器、电容器和电感器、多片器件、集成电路和有源半导体器件中形成抗蚀剂图案。

″激光直接成像″方法(LDI)是已知的,它们使用来自计算机的数字数据直接地形成胶版印刷板或印刷电路板,并且提供优于使用感光掩膜的在前方法的许多优点。在这一领域已存在更有效激光、改进的可成像组合物及其组分的相当大的发展。

热敏可成像元件可以分类为响应于适合量的热能,暴露到该热能中,或吸收该热能而经历化学转变的那些。热诱导的化学转变的性质可以烧蚀元件中的可成像组合物,或改变其在特定显影剂中的溶解度,或改变热敏层的表面层的粘性或亲水性或疏水性。因而,热成像可以用来使可以充当平版印刷表面或PCB制造中的抗蚀剂图案的可成像层的预定区域暴露出来。

包含酚醛清漆或其它酚醛聚合物粘结剂和二偶氮醌成像组分的正性工作可成像组合物在平版印刷板和光致抗蚀剂工业中已经流行多年。基于各种酚醛树脂和红外辐射吸收性化合物的可成像组合物也是熟知的。

可用作热成像记录材料的大范围的热可成像组合物在GB专利出版物1,245,924(Brinckman)中进行了描述。该出版物描述了通过间接暴露到短持续期、高强度可见光或红外辐射中加热可成像层而提高可成像层的任何给定区域在给定溶剂中的溶解度。这种辐射可以从原始与记录材料接触的图形的背景区域传送或反射。该出版物描述了各种机理和显影材料并且酚醛清漆树脂包括在水性可显影组合物当中,所述水性可显影组合物还可以包括辐射吸收性化合物例如炭黑或C.I.颜料蓝27。

WO 2004/081662(Memetea等人)描述了酸性性质的显影性增强化合物与酚醛聚合物或聚(乙烯醇缩醛)一起用来提高正性工作组合物和元件的敏感性的应用以致降低所要求的成像能。用于这样的组合物和元件的一些尤其有用的聚(乙烯醇缩醛)在美国专利6,255,033(Levanon等人)和6,541,181(Levanon等人)中进行了描述。

工业已经聚焦于需要减弱酚醛粘结剂的曝光区域在曝光之前在可成像层中的溶解性(溶解抑制剂)并提高它们在暴露到合适热能中之后的溶解性(溶解提高剂)。已经描述了能够提高正性工作组合物的敏感性的若干材料。通常,所述的在前溶解提高剂具有酸性性质,并包括磺酸类、亚磺酸类、烷基硫酸类、膦酸类、次膦酸类、磷酸酯类、羧酸类、酚类、磺酰胺类或磺酰亚胺类。

将含某些碱性含氮的显影性增强材料的热可成像元件与聚(乙烯醇缩醛)一起使用,该显影性增强材料包含碱性含氮的有机醇化合物,如共同未决和共同受让的美国序列号11/677,599(由M.Levanon、L.Postel、M.Rubin和T.Kurtser于2007年2月22日提交)所述。也可以用于正性工作可成像元件的独特聚(乙烯醇缩醛)在共同未决和共同受让的美国序列号11/769,766(由M.、E.Lurie和V.Kampel于2007年6月28日提交)中进行了描述。

待解决的问题

虽然本领域中描述的组合物在本领域中提供了重要的进展,但是持续需要更加改进正性工作组合物和元件的敏感性,尤其是它们对红外辐射的响应,而不会损失其它所需的性能。

发明内容

本发明用新型辐射敏感性可成像元件提供了本领域中的进展。因此,本发明提供正性工作可成像元件,其包括基材和在基材上的:

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