[发明专利]载流子流产生电子器件及方法有效
申请号: | 200880117163.0 | 申请日: | 2008-11-12 |
公开(公告)号: | CN101868828A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 托尼·范胡克;雷德弗里德勒·A·M·胡尔克斯;杨·W·斯洛特布曼 | 申请(专利权)人: | NXP股份有限公司 |
主分类号: | G11C16/02 | 分类号: | G11C16/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 载流子 流产 电子器件 方法 | ||
1.一种电子器件,包括:
用于产生载流子流(125)的发生器,所述发生器包括:
双极晶体管(100),具有发射极区(120)、集电极区(160)和基极区(140),所述基极区(140)在所述发射极区(120)和所述集电极区(160)之间取向,以及
控制器,用于控制双极晶体管(100)暴露于超过其开路基极击穿电压(BVCEO)的电压,使得发射极区(120)从比发射极区的表面区域更小的第一区域产生载流子流(125)。
2.根据权利要求1所述的电子器件,还包括设置成对载流子流暴露的材料(410),所述载流子流用于触发所述材料性能的变化。
3.根据权利要求1或2所述的电子器件,其中选择所述双极晶体管的掺杂分布,以增强从所述发射极区(120)的第一区域的载流子流的产生。
4.根据权利要求3所述的电子器件,其中所述集电极区包括具有横向梯度的掺杂分布。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的电子器件,其中所述发生器设置成用作场发射器。
6.根据权利要求2-4中任一项所述的电子器件,还包括电极(420),其中所述材料(410)包括在所述电极(410)和所述基极区(140)之间取向的相变材料。
7.根据权利要求6所述的电子器件,其中所述材料在所述电极和所述发射极区(120)之间取向。
8.根据权利要求6所述的电子器件,其中所述材料形成所述发射极区(120)的至少一部分。
9.根据前述权利要求中任一项所述的电子器件,其中所述基极区(140)包括多个不同位置的基极端子,用于控制所述发射极区表面区域中第一区域的位置。
10.根据前述权利要求任一项所述的电子器件,其中所述双极晶体管(100)连接成以反型模式操作。
11.根据前述权利要求中任一项所述的电子器件,包括多个双极晶体管(100),每一个晶体管设置成引起相应的材料部分(410)的性能变化。
12.一种用于产生载流子流的方法,包括:
提供双极晶体管(100),所述双极晶体管(100)具有发射极区(120)、集电极区(160)和基极区(140),所述基极区(140)在所述发射极区(120)和所述集电极区(160)之间取向;以及
控制双极晶体管(100)暴露于超过其开路基极击穿电压(BVCEO)的电压,使得发射极区(120)从比发射极区的表面区域更小的第一区域产生载流子流。
13.根据权利要求12所述的方法,还包括:
提供材料(410),所述材料(410)设置成接收载流子流;以及
利用载流子流触发所述材料性能的变化。
14.根据权利要求13所述的方法,其中所述材料(410)是相变材料,并且其中触发性能变化包括改变所述材料(410)的结晶相。
15.根据权利要求12-14所述的方法,其中所述双极晶体管(100)的所述基极区(140)包括多个不同位置的基极端子,所述方法还包括通过将预定数目的所述基极端子连接到控制信号,控制所述发射极区表面区域中第一区域的位置。
16.根据权利要求12-15中任一项所述的方法,还包括以反型模式操作所述双极晶体管(100)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于NXP股份有限公司,未经NXP股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880117163.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。