[发明专利]对纵向移动纱线中的杂质进行光学检测的设备

权利要求书

1.一种用于对纵向移动的纱线(13，23，33)中的杂质尤其是外来纤维进行光学检测的设备，该设备具有白光二极管(11，21，31)和用于测量由所述纱线(13，23，33)反射的光的至少一个传感器(12，22)，所述白光二极管(11，21，31)沿所述纱线的方向发射光并具有发射蓝光的半导体元件和冷光转换元件，其特征在于：在光路(14，24)上布置有光学滤波器(10，20，30)，该滤波器被设置为减小蓝光的波长范围的强度而使可见光的较长波长范围的强度基本上不受影响。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述滤波器(10，20，30)对于520nm至720nm波长的透射度大于80％。

3.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于：蓝光波长范围中的强度最大值可以通过所述滤波器(10，20，30)减小至少30％。

4.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于：对所述滤波器进行调整，使得蓝光波长范围中的强度最大值与所述较长波长范围中的强度最大值相一致。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于：所述光学滤波器(10，20，30)的透射度和用于测量由所述纱线(13，23，33)反射的光的所述传感器(12，22)的灵敏度被设置为，使得对于每个波长范围都产生期望的滤波效果。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的设备，其特征在于：所述滤波器(10)布置在所述白光二极管(11)与所述纱线(13)之间。

7.根据权利要求6所述的设备，其特征在于：所述滤波器作为薄层被直接设置在所述白光二极管上。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的设备，其特征在于：所述滤波器(20)布置在所述纱线(23)与用于测量由所述纱线反射的光的所述传感器(22)之间。

9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于：所述滤波器作为薄层被直接设置在所述传感器上。

10.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于：所述光学滤波器(10，20，30)被构造为干涉滤波器。

11.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于：所述光学滤波器(10，20，30)具有减反涂层。

12.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于：所述光学滤波器(30)具有用于使透射光发生漫射的装置。

13.根据权利要求12所述的设备，其特征在于：所述用于使透射光发生漫射的装置是所述光学滤波器(30)的粗糙表面。