[发明专利]光吸收性部件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200880111249.2 申请日: 2008-10-14
公开(公告)号: CN101842517A 公开(公告)日: 2010-09-22
发明(设计)人: 森和彦;冈野泰裕;林洋树 申请(专利权)人: 日本帕卡濑精株式会社
主分类号: C23C28/00 分类号: C23C28/00;C23C18/32
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李贵亮
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 吸收性 部件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光吸收性部件,其特征在于,具有接合于被处理基材表面的含有镍和/或钴的黑色的下层以及含有选自铝、镁及锌中的至少1种的氧化物的上层,所述被处理基材具有含有锌和/或铝的表面。

2.一种权利要求1所述的光吸收性部件的制造方法,其特征在于,通过使具有含有锌和/或铝的被处理表面的被处理基材与含有镍离子和/或钴离子、水溶性含硫化合物和酸性阴离子的水溶液接触,在所述被处理表面形成含有镍和/或钴的黑色的下层,然后,在所述下层上形成含有选自铝、镁及锌中的至少1种的氧化物的上层。

3.一种权利要求1所述的光吸收性部件的制造方法,其特征在于,通过使具有含有锌和/或铝的被处理表面的被处理基材与含有选自铝、镁及锌中的至少1种金属、镍离子和/或钴离子、水溶性含硫化合物、和酸性阴离子的水溶液接触,同时形成含有镍和/或钴的黑色的下层以及含有选自铝、镁及锌中的至少1种的氧化物的上层。

4.根据权利要求2或3所述的光吸收性部件的制造方法,其中,所述酸性阴离子至少含有氟化物离子。

5.根据权利要求2~4中任一项所述的光吸收性部件的制造方法,其中,所述水溶性含硫化合物在分子结构中具有C=S键和-NH2基。

6.根据权利要求2~5中任一项所述的光吸收性部件的制造方法,其中,所述水溶性含硫化合物为选自二氧化硫脲、硫脲、及它们的衍生物中的至少1种化合物。

7.根据权利要求2~6中任一项所述的光吸收性部件的制造方法,其中,所述水溶液中的锌浓度(Ag/L)与镍离子和/或钴离子的浓度(Bg/L)的浓度比即(A)/(B)在0.05~1.0的范围。

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