[发明专利]制造振荡器装置的方法、有该装置的光偏转器和光学仪器无效
申请号: | 200880111065.6 | 申请日: | 2008-11-13 |
公开(公告)号: | CN101821660A | 公开(公告)日: | 2010-09-01 |
发明(设计)人: | 藤井一成;加藤贵久;堀田薰央;宫川卓;秋山贵弘 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B26/08 | 分类号: | G02B26/08;B81B3/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 钱亚卓 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 振荡器 装置 方法 偏转 光学仪器 | ||
1.一种用于制造振荡器装置的方法,所述振荡器装置具有第一和第二振荡器,所述第一和第二振荡器由固定构件支撑以便通过第一和第二扭力弹簧围绕扭转轴线进行扭转振荡,所述振荡器装置以第一和第二驱动共振频率gf1和gf2被驱动,所述方法包括:
用于加工两个振荡器的第一步骤,其中,当两个振荡器要被加工成具有第一和第二共振频率的振荡器,且所述第一和第二共振频率以某一分散范围不同于两个驱动共振频率时,两个振荡器被加工成使得与两个驱动共振频率不同的第一和第二共振频率分别等于第一和第二共振频率f1和f2,所述第一和第二共振频率f1和f2分别包括在能调节的共振频率范围内;和
用于调节第一和第二共振频率f1和f2的第二步骤,使得所述第一和第二共振频率f1和f2分别等于第一和第二驱动共振频率gf1和gf2。
2.如权利要求1所述的制造振荡器装置的方法,其中,当第一和第二共振频率f1和f2的共振频率分散范围的下限最小值分别由f1a和f2a表示,所述范围的上限最大值由f1b和f2b表示,并且第一和第二共振频率f1和f2的共振频率分散范围由下式表示时,
f1a<f1<f1b
f2a<f2<f2b
所述方法包括加工所述振荡器装置的步骤,使得第一和第二驱动共振频率gf1和gf2满足关系
gf1<f1a,并且gf2<f2a
或者
gf1>f1b,并且gf2>f2b。
3.如权利要求1或2所述的制造振荡器装置的方法,其中,对于在所述第二步骤中调节第一和第二共振频率f1和f2,去除至少一个振荡器的质量以进行调节。
4.如权利要求1或2所述的制造振荡器装置的方法,其中,对于在所述第二步骤中调节第一和第二共振频率f1和f2,给至少一个振荡器增加质量以进行调节。
5.如权利要求1或2所述的制造振荡器装置的方法,其中,对于在所述第一步骤中制造振荡器装置,当第一和第二扭力弹簧在第一和第二驱动共振频率gf1和gf2下的第一和第二弹簧常数分别由k1和k2表示,第一和第二弹簧常数的下限最小值分别由k1a和k2a表示,第一和第二弹簧常数的上限最大值分别由k1b和k2b表示时,在由下式表示的弹簧常数范围内制造第一和第二扭力弹簧,
k1a<k1<k1b
k2a<k2<k2b,
振荡器装置被制造成使得所有单独生产的振荡器的第一和第二共振频率f1和f2均落入满足下列等式(1)到等式(4)的共振频率范围内:
其中
...(1)
其中
...(2)
f1<gf1...(3)
f2<gf2...(4)。
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