[发明专利]单层外观抹灰及其制造方法

权利要求书

1.抹灰，特别地单层抹灰，尤其用于建筑物立面涂层，所述抹灰包括至少一种具有至少一个烷氧基官能的硅烷。

2.根据权利要求1的抹灰，特征在于其包括包含至少一种粘合剂和骨料的混合物。

3.根据权利要求1或2之一的抹灰，特征在于具有至少一个烷氧基官能团的硅烷在即时拌合的抹灰组合物中的比率为至少0.1重量％，不超过1重量％。

4.根据权利要求1或2之一的抹灰，特征在于所述抹灰使得水滴在所述固化的抹灰层表面的接触角大于140°，和/或水滴在所述固化的抹灰层表面的分离角小于30°。

5.制造根据权利要求1至4之一的抹灰的方法，其中将至少一种具有至少一个烷氧基官能团的硅烷加入到抹灰组合物中。

6.根据权利要求5的方法，特征在于硅烷通过被吸附在该组合物的至少一种固体组分上以粉末形式加入到抹灰组合物中。

7.支撑物，如建筑物立面，特征在于其至少部分涂有根据权利要求1至4之一的抹灰。

8.根据权利要求1至4之一的抹灰用于改善建筑物表面疏水性和适当时限制可见变质的用途，所述可见变质例如色调差异，特别归因于碳酸盐化或褪色现象和/或归因于开裂和/或分化干燥现象，和/或生物、矿物和/或有机来源的污染，和/或植物生长繁殖。