[发明专利]液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件

说明书

技术领域

本发明涉及液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件。更 具体地说，涉及不进行打磨处理而通过照射偏光或非偏光射线形 成液晶取向膜时使用的曝光量少的液晶取向剂，具有均匀的液晶 取向能和优异的电特性的液晶取向膜，以及具有高品质的显示性 能，可靠性优异的液晶显示元件。

背景技术

迄今，已知具有将具有正介电各向异性的向列型液晶在带有 具有液晶取向膜的透明电极的基板中形成夹层结构，并根据需要 使液晶分子的长轴在基板间连续地扭转0～360°而制成的TN型 (扭曲向列)和STN(超扭曲向列)型、IPS(面内切换)型等液晶盒的液 晶显示元件(参考日本特开昭56-91277号公报和日本特开平1- 120528号公报)。

在这种液晶盒中，为了使液晶分子相对于基板表面以一定方 向取向，必须在基板表面上设置液晶取向膜。这种液晶取向膜通 常通过用人造纤维等布料，在一个方向摩擦基板表面上形成的有 机膜表面的方法(打磨法)而形成。但是，若通过打磨处理进行液晶 取向膜的形成，则不仅存在由于工序中容易产生粉尘、静电，从 而导致取向膜表面附着粉尘而成为显示不良发生的原因的问题， 特别是在使用具有TFT(薄膜晶体管)元件的基板的情况下，还存在 产生的静电导致TFT元件电路损坏而成为成品率下降的原因的问 题。并且，在今后日益高度精密化的液晶显示元件中，随着像素 的高密度化，基板表面难免产生凹凸不平，从而使得均匀地进行 打磨处理变得更加困难。

作为使液晶盒中的液晶取向的其它手段，已知通过对基板表 面上形成的由聚乙烯肉桂酸酯、聚酰亚胺、偶氮苯衍生物等感射 线性薄膜照射偏光或非偏光的射线而使其产生液晶取向能的光取 向法。若采用该方法，则不会产生静电和粉尘，可实现均匀的液 晶取向(参考日本特开平6-287453号公报、日本特开平10- 251646号公报、日本特开平11-2815号公报、日本特开平11- 152475号公报、日本特开2000-144136号公报、日本特开2000 -319510号公报、日本特开2000-281724号公报、日本特开平9 -297313号公报、日本特开2003-307736号公报、日本特开2004 -163646号公报和日本特开2002-250924号公报)。

不过，在TN型(扭曲向列)、STN(超扭曲向列)型等的液晶盒 中，液晶取向膜必须具有使液晶分子相对于基板面以预定的角度 倾斜取向的预倾角特性。在采用光取向法形成液晶取向膜的情况 下，预倾角特性通常通过使照射的射线向基板面的入射方向从基 板法线发生倾斜而产生。

上述光取向法，已知在垂直取向模式的液晶盒中作为控制液 晶分子倾斜方向的方法也是很有用的。也就是说，已知通过使用 由光取向法产生取向控制力和预倾角特性的垂直取向膜，可以均 匀地控制施加电压时的液晶分子的倾斜方向(参考日本特开2003 -307736号公报、日本特开2004-163646号公报、日本特开2004 -83810号公报、日本特开平9-211468号公报和日本特开2003 -114437号公报)。

采用光取向法制造的液晶取向膜，可以有效地应用于各种液 晶显示元件。但是，作为可适用于光取向法的液晶取向剂，以往 已知的取向膜剂具有为了获得较大的预倾角，所需的射线照射量 很大的问题。例如，已有报道，在含有偶氮苯衍生物的薄膜中， 通过光取向法产生液晶取向能的情况下，为了获得足够的预倾角， 必须照射10,000J/m²以上的光轴从基板法线倾斜的射线(参考日本 特开2002-250924号公报、日本特开2004-83810号公报和J.of the SID 11/3，2003，p579)。

发明内容

本发明的目的是提供能够不进行打磨处理而通过照射偏光或 非偏光射线形成液晶取向膜时适用的曝光量少的液晶取向剂，具 有均匀的液晶取向能和优异的电特性的液晶取向膜，以及具有高 品质的显示性能，可靠性优异的液晶显示元件。

通过以下说明，可清楚地了解本发明的其他目的和优点

根据本发明，本发明的上述目的和优点，第1，通过一种液晶 取向剂达成，其含有：

(A)下述式(1)表示的化合物，(B)一个分子中具有2个以上环 氧基的化合物，以及(C)包含选自聚酰胺酸和聚酰亚胺构成的群组 中的至少一种的聚合物，