[发明专利]碱性非离子型表面活性剂组合物

权利要求书

1.一种硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩模用基板或平板显 示器用基板中的用途，所述硬质表面用洗涤剂由碱性非离子型表面活性剂 组合物构成，其中，所述碱性非离子型表面活性剂组合物含有：

成分A：非离子型表面活性剂，

成分B：水，

成分C：选自苯磺酸、甲苯磺酸、二甲苯磺酸、羟基苯磺酸以及它们 的盐中的一种以上的化合物，和

成分D：选自氢氧化钾和氢氧化钠中的一种以上的碱剂；

所述成分A即非离子型表面活性剂的含量为0.5～20重量%，

所述成分C的含量为1～30重量%，

所述成分D的含量为0.5～10重量%，

且所述组合物在25℃下的pH为12.5～14；

所述非离子型表面活性剂用下述式1表示：

R¹-O-（EO）_m（PO）_n-H      （式1）

R¹是碳原子数为8～18的烷基、碳原子数为8～18的链烯基、碳原子 数为8～18的酰基或碳原子数为14～18的烷基苯基，EO是氧化乙烯基， PO是氧化丙烯基，m和n分别是EO和PO的平均加成摩尔数，m表示1～ 20的数、n表示0～20的数，（EO）_m（PO）_n中的EO和PO的排列是嵌 段型或无规型。

2.如权利要求1所述的硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩模 用基板或平板显示器用基板中的用途，其中，所述碱性非离子型表面活性 剂组合物还含有成分E螯合剂。

3.如权利要求1所述的硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩模 用基板或平板显示器用基板中的用途，其中，所述成分C的含量为2～15 重量%。

4.如权利要求2所述的硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩模 用基板或平板显示器用基板中的用途，其中，所述成分C的含量为2～15 重量%。

5.如权利要求1所述的硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩模 用基板或平板显示器用基板中的用途，其中，所述碱性非离子型表面活性 剂组合物还含有成分F水溶性高分子。

6.如权利要求2所述的硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩模 用基板或平板显示器用基板中的用途，其中，所述碱性非离子型表面活性 剂组合物还含有成分F水溶性高分子。

7.如权利要求3所述的硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩模 用基板或平板显示器用基板中的用途，其中，所述碱性非离子型表面活性 剂组合物还含有成分F水溶性高分子。

8.如权利要求4所述的硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩模 用基板或平板显示器用基板中的用途，其中，所述碱性非离子型表面活性 剂组合物还含有成分F水溶性高分子。

9.如权利要求1所述的硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩模 用基板或平板显示器用基板中的用途，其中，所述组合物的浊点在65℃以 上。

10.如权利要求2所述的硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩 模用基板或平板显示器用基板中的用途，其中，所述组合物的浊点在65℃ 以上。

11.如权利要求3所述的硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩 模用基板或平板显示器用基板中的用途，其中，所述组合物的浊点在65℃ 以上。

12.如权利要求4所述的硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩 模用基板或平板显示器用基板中的用途，其中，所述组合物的浊点在65℃ 以上。

13.如权利要求5所述的硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩 模用基板或平板显示器用基板中的用途，其中，所述组合物的浊点在65℃ 以上。

14.如权利要求6所述的硬质表面用洗涤剂在记录介质用基板、光掩 模用基板或平板显示器用基板中的用途，其中，所述组合物的浊点在65℃ 以上。