[发明专利]真空吸附控制机构装置、薄膜粘贴装置、薄膜粘贴方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 200880104980.2 申请日: 2008-08-20
公开(公告)号: CN101795950A 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 小寺秀树 申请(专利权)人: NEC液晶技术株式会社
主分类号: B65H37/04 分类号: B65H37/04;B29C65/78;G02B5/30;G02F1/13;G02F1/1335;G09F9/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 孙志湧;李亚
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 真空 吸附 控制 机构 装置 薄膜 粘贴 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种真空吸附控制机构装置,其特征在于,

包括:第一部件,该第一部件能够调节相对于被吸附物的相对位 置,具备弯曲形状的表面和平面形状的侧面,并且所述表面具有能够 与减压源连接且能够吸附被吸附物的多个吸附孔;和

第二部件,被设置为能够与多个所述吸附孔接触,并且以能够相 对于所述第一部件进行相对旋转的方式设置于所述侧面,

所述第二部件具有将与所述第一部件和所述第二部件的相对位置 对应的数量的吸附孔与所述减压源连接的构件,

所述第二部件具有:槽部,设置于与所述第一部件的所述侧面相 对的面上,具有与所述弯曲形状对应的形状;和孔部,从所述槽部贯 通至所述第二部件的外部,与所述减压源连接,

多个所述吸附孔被设置为贯通所述第一部件的侧面和表面,且所 述侧面的贯通部分被排列设置为与所述槽部的形状对应的排列形状,

所述第一部件或所述第二部件能够沿着所述弯曲形状的弯曲方向 移动,

通过所述第二部件相对于所述第一部件进行相对旋转,所述第二 部件的所述槽部相对于所述第一部件进行相对移动,与所述槽部接触 的所述吸附孔与所述减压源连接。

2.如权利要求1所述的真空吸附控制机构装置,其特征在于,

所述第一部件在所述表面上设置有挡块,该挡块用于防止在吸附 薄膜时将所述吸附孔的痕迹转印到所述薄膜上。

3.如权利要求2所述的真空吸附控制机构装置,其特征在于,

所述第一部件具有圆筒形状,

所述槽部具有圆弧状的形状,

多个所述吸附孔排列成圆弧状,

所述第一部件或所述第二部件能够以所述圆筒的轴为中心旋转,

通过所述第一部件或所述第二部件以圆筒的轴为中心旋转,所述 第二部件的所述槽部相对于所述第一部件进行相对移动,与所述槽部 接触的所述吸附孔与所述减压源连接。

4.如权利要求2所述的真空吸附控制机构装置,其特征在于,

所述第一部件是保持薄膜的粘贴头,

所述第二部件是设置于所述粘贴头的侧面的基座体。

5.如权利要求1所述的真空吸附控制机构装置,其特征在于,

所述减压源是真空泵。

6.如权利要求3所述的真空吸附控制机构装置,其特征在于,

还具有粘贴平台,被设置为与所述第一部件的所述表面相对,保 持被粘贴物。

7.如权利要求6所述的真空吸附控制机构装置,其特征在于,

所述第一部件及/或所述粘贴平台具有弹性。

8.一种薄膜粘贴装置,其特征在于,

具有权利要求1~7中任一项所述的真空吸附控制机构装置。

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