[发明专利]通过纳米过滤和反相色谱法从水溶性化合物中去除二氧化硅

权利要求书

1.纯化包含产物化合物和二氧化硅类的产物溶液的方法，所述二氧化硅类选自可溶性单硅酸、可溶性聚合二氧化硅或胶体二氧化硅的至少一种，该方法包括在纳滤膜装置中处理该产物溶液以将产物溶液分离成包含分子量低于膜的分子量截留的二氧化硅类的渗透流，和包含产物化合物和分子量高于膜的分子量截留的二氧化硅类的渗余流。

2.权利要求1的方法，其中该二氧化硅类包含单硅酸和可溶性聚合二氧化硅。

3.权利要求2的方法，其中该二氧化硅类还包含胶体二氧化硅。

4.权利要求1至3的方法，其中该渗透流和渗余流以连续或不连续的渗滤处理。

5.权利要求4的方法，其中渗滤的数量为3至15次。

6.权利要求1至5中任一项的方法，其中产物化合物的最终二氧化硅含量小于约0.1％重量。

7.权利要求6的方法，其中产物化合物的最终二氧化硅含量小于约0.01％重量。

8.权利要求7的方法，其中产物化合物的最终二氧化硅含量小于约0.005％重量。

9.权利要求1至8中任一项的方法，其中该产物化合物为x-射线造影剂。

10.权利要求9的方法，其中该x-射线造影剂选自碘帕醇、碘美普尔、碘海醇、碘喷托、碘普胺、碘西胺、碘佛醇、碘曲仑、碘酞硫、碘克沙醇、碘西醇、碘葡胺、碘葡苯胺、碘古酰胺、碘沙考、碘昔兰、碘必乐、甲泛葡胺、碘比醇和碘美醇。

11.权利要求1至8中任一项的方法，其中该产物化合物为磁共振成像造影剂。

12.权利要求11的方法，其中该磁共振成像造影剂选自钆膦维司三钠、钆塞酸钠、钆美利醇、钆贝酸二葡甲胺，以及它们相应的配体。

13.权利要求1至12中任一项的方法，进一步包括将渗余流装载在包含固定相的反相色谱装置上，并将产物化合物从分子量高于膜的分子量截留的二氧化硅类分离以形成色谱产物化合物流和包含分子量高于膜的分子量截留的二氧化硅类的色谱二氧化硅流。

14.权利要求13的方法，其中该固定相基于二氧化硅。

15.权利要求13或权利要求14的方法，其中，相对于色谱产物化合物流，分子量高于膜的分子量截留的二氧化硅类集中包含在色谱二氧化硅流中，且相对于色谱二氧化硅流，产物化合物集中包含在色谱产物化合物流中。

16.权利要求13至15中任一项的方法，其中包含在色谱二氧化硅流中的二氧化硅与包含在色谱产物化合物流中的二氧化硅的重量比为至少2∶1。

17.权利要求13至16中任一项的方法，其中该渗余物在装载到反相色谱装置上之前被浓缩或干燥。

18.纯化包含产物化合物和聚合二氧化硅的产物溶液的方法，该方法包括将产物溶液装载到包含基于二氧化硅的固定相的反相色谱装置上，且洗脱一个或多个前级分流和一个或多个纯化的产物级分流，其中

相对于全部纯化的产物级分流，聚合二氧化硅集中包含在全部前级分流中；

相对于全部前级分流，产物化合物集中包含在全部纯化的产物级分流中。

19.权利要求18的方法，其中该聚合二氧化硅包含胶体二氧化硅。

20.权利要求18或权利要求19的方法，其中包含在全部前级分流中的二氧化硅与包含在全部纯化的产物级分流中的二氧化硅的重量比为至少2∶1。

21.权利要求18至20中任一项的方法，其中该一种或多种纯化的产物级分流还包含单硅酸，且该一种或多种纯化的产物级分流进一步在选择性纳滤膜装置中处理以将纯化的产物级分流分离成包含分子量低于膜的分子量截留的可溶性二氧化硅类的渗透流，和包含产物化合物和分子量高于膜的分子量截留的可溶性二氧化硅类的渗余流。

22.权利要求21的方法，其中该渗透流和渗余流以连续或不连续的渗滤处理。

23.权利要求22的方法，其中渗滤的数量为3至15次。

24.权利要求21至23中任一项的方法，其中产物化合物的最终二氧化硅含量小于约0.1％重量。