[发明专利]陶瓷纳米粒子的制造方法有效
| 申请号: | 200880104185.3 | 申请日: | 2008-07-04 |
| 公开(公告)号: | CN101784484A | 公开(公告)日: | 2010-07-21 |
| 发明(设计)人: | 榎村真一 | 申请(专利权)人: | M技术株式会社 |
| 主分类号: | C01F7/02 | 分类号: | C01F7/02;B01F3/08;B01F5/06;C01G23/00;C01G23/053;C01G25/02 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李洋 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 陶瓷 纳米 粒子 制造 方法 | ||
1.一种陶瓷纳米粒子的制造方法,其特征在于,在处理用面之 间形成的薄膜流体中,加水分解陶瓷原料,上述处理用面可接近和分 离地相互相对向配置,且至少一方相对于另一方旋转。
2.如权利要求1所记载的陶瓷纳米粒子的制造方法,其特征在 于,上述的陶瓷纳米粒子为氧化铝、氧化锆、钛酸钡、氧化钛中的任 意一种。
3.如权利要求1所记载的陶瓷纳米粒子的制造方法,其特征在于, 作为上述陶瓷纳米粒子的陶瓷原料,使用从Al、Ba、Mg、Ca、La、 Fe、Ti、Zr、Pb、Sn、Zn、Cd、Ga、Sr、Bi、Ta、Hf、Ni、Mn、 Co、Ge、Li、Ce中所选取的至少1种金属的醇盐或金属盐。
4.如权利要求1所记载的陶瓷纳米粒子的制造方法,其特征在 于,在加水分解上述陶瓷原料时控制pH值。
5.如权利要求1~4项中的任何一项所记载的陶瓷纳米粒子的制造 方法,其特征在于,所得到的陶瓷纳米粒子的粒度分布的CV值为5~ 40%。
6.如权利要求1~4项中的任何一项所记载的陶瓷纳米粒子的制造 方法,其特征在于,上述的加水分解具有:
流体压力施加机构,流体压力施加机构对被处理流体施加规定压 力;
第1处理用部和第2处理用部至少2个处理用部,上述第2处理 用部可相对于该第1处理用部接近或分离;
旋转驱动机构,该旋转驱动机构使上述第1处理用部和第2处理 用部相对旋转;
在上述各处理用部的互相相对的位置上,设置第1处理用面及第 2处理用面至少2个处理用面,
上述各处理用面构成上述规定压力的被处理流体流过的被密封的 流路的一部分,
在上述两处理用面间,均匀混合2种以上的被处理流体并使其积 极地发生反应,上述2种以上的被处理流体中的至少任意一个含有反 应物,
在上述第1处理用部和第2处理用部中,至少第2处理用部具有 受压面,并且,该受压面的至少一部分由上述第2处理用面构成,
该受压面受到上述流体压力施加机构施加给被处理流体的压力, 从而产生使第2处理用面相对于第1处理用面向分离的方向移动的力,
使上述规定压力的被处理流体通过可接近或分离且相对旋转的第 1处理用面和第2处理用面之间,从而,上述被处理流体一边形成规 定膜厚的薄膜流体一边从两处理用面间通过,
并且,具有独立于上述规定压力的被处理流体流过的流路的另外 的导入路,
上述第1处理用面和第2处理用面中的至少任意一方包括至少一 个与上述导入路相通的开口部,
将从上述导入路输送来的至少一种被处理流体导入上述两处理用 面之间,至少上述各被处理流体的任意一方中所含有的上述反应物和 与上述被处理流体不同的被处理流体,通过在上述薄膜流体中均匀搅 拌而混合,从而达到所希望的反应状态。
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