[发明专利]对样本成像的方法无效
| 申请号: | 200880103330.6 | 申请日: | 2008-08-12 |
| 公开(公告)号: | CN101779155A | 公开(公告)日: | 2010-07-14 |
| 发明(设计)人: | D·沃森;L·巴克;B·赫尔斯肯;S·斯塔林加 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B21/00 | 分类号: | G02B21/00;G02B21/14;G02B21/08 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 刘鹏;谭祐祥 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 样本 成像 方法 | ||
1.一种对样本成像的方法,包括步骤:
a)提供(S1)参考光斑阵列(104),
b)利用所述参考光斑阵列(104)照射样本(106)并且获取(S2)至少一幅样本图像(IMSi),所述样本图像包括从与样本(106)相互作用的参考光斑阵列得到的样本相关光斑阵列(107),
c)确定(S3)多个样本相关光斑中的每一个的光斑表征参数,以及
d)通过在对应的样本相关光斑位置处绘制所述多个样本相关光斑中的每一个的光斑表征参数来构造(S4)样本的图像(IMS)。
2.依照权利要求1的对样本成像的方法,其中该方法还包括步骤:
e)扫描样本(106)和参考光斑阵列(104)的相对位置,
f)重复所述样本照射步骤、样本图像获取步骤和光斑表征参数确定步骤,以及
g)通过绘制所述多个样本相关光斑中的每一个的光斑表征参数与样本相关光斑阵列(107)和参考光斑阵列(104)的相对位置的函数关系来构造(S4)样本的图像(IMS)。
3.依照权利要求1或2的对样本成像的方法,其中所述光斑表征参数确定步骤包括通过以下步骤来在参考光斑阵列(104)与成像的样本相关光斑阵列(IMSi)之间进行比较:
-识别参考光斑阵列(104)中的参考光斑,
-识别成像的样本相关光斑阵列(IMSi)中的样本光斑,以及
-将多个识别的样本光斑与相应的识别的参考光斑关联。
4.依照权利要求3的对样本成像的方法,其中确定光斑表征参数包括步骤:
-在成像的光斑阵列(IMSi)内确定所述多个识别的光斑的参考位置,
-在成像的样本相关光斑阵列(IMSi)内确定所述多个识别的光斑的样本位置,
-通过计算所述多个关联的光斑的参考位置与样本位置之差来确定多个光斑的位移矢量(DV)。
5.依照权利要求4的对样本成像的方法,其中确定光斑表征参数还包括步骤:计算位移矢量(DV)的幅度或相位或者关于笛卡尔坐标系的分量。
6.依照权利要求4的对样本成像的方法,其中在成像的光斑阵列(IMSi)内确定所述多个识别的光斑的参考位置包括步骤:
-定义至少两个参考位置,
-针对所述至少两个参考位置在成像的样本相关光斑阵列(IMSi)内确定识别的光斑的位移矢量,
-计算所述位移矢量的幅度平方的平均值,以及
-选择具有位移矢量幅度平方的最小平均值的参考位置。
7.依照权利要求3的对样本成像的方法,其中确定光斑表征参数包括步骤:确定由于参考光斑阵列与样本相互作用而引起的所述光斑的形状或偏振的改变。
8.依照权利要求3的对样本成像的方法,其中该方法还包括步骤:
-将光斑成像到限定像素矩阵的像素化检测器上,
-将像素分组成区域,
-将区域与每个样本光斑关联,区域内最靠近识别的参考光斑的像素相应于识别的样本光斑,以及
-通过对每个区域的像素强度进行总和来确定所述光斑表征参数。
9.依照权利要求3的对样本成像的方法,其中该方法还包括步骤:
-将光斑成像到限定像素矩阵的像素化检测器上,
-将像素分组成区域,
-将至少两个区域与每个样本光斑关联,所述至少两个区域内最靠近识别的参考光斑的像素相应于识别的样本光斑,
-对每个区域的像素强度进行总和,以及
-通过求取所述至少两个区域的总和的强度之差来确定光斑表征参数。
10.依照权利要求8或9的对样本成像的方法,其中所述与每个光斑关联的至少一个区域为圆或者正方形,和/或具有充分小于样本光斑直径的尺寸。
11.依照权利要求3-10中任何一项的对样本成像的方法,其中成像的光斑阵列(IMSi)内所述多个识别的光斑的参考位置在对基本上均匀的样本进行校准操作期间获取。
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