[发明专利]有机硅模具及其使用

权利要求书

1.一种有机硅模具，包括氧化的图案化表面和在所述图案化表面 上的全氟醚硅烷脱模剂层，所述脱模剂由以下化学式表示：

R_f-[-R¹-Si(Y)_3-x(R²)_x]_y(I)

其中：

R_f为包含全氟化重复单元的单价或二价全氟醚基团，所述全氟化 重复单元选自-(C_nF_2nO)-、-(CF(Z)O)-、-(CF(Z)C_nF_2nO)-、-(C_nF_2nCF(Z)O)-、 -(CF₂CF(Z)O)-及其组合，其中n为1至6，Z为全氟烷基、全氟烷氧基 或全氟醚基；

R¹由以下化学式表示：

-R⁴-Q-R⁵-，其中

R⁴和R⁵各自独立地为共价键、-O-或二价亚烷基或亚芳基或其组 合，所述亚烷基任选地包含一个或多个链中氧原子；

Q为-CO₂-、-SO₃-、-CONR⁶-、-O、-S-、共价键、-SO₂NR⁶-或-NR⁶-， 其中R⁶为氢或C₁-C₄烷基；

R²为低级烷基，

Y为烷氧基、酰氧基或卤素基团；

x为0或1；y为1或2。

2.根据权利要求1所述的模具，其中所述全氟醚脱模剂的所述全 氟醚部分选自：

-CF₂O(CF₂O)_a(C₂F₄O)_bCF₂-、-CF₂O(C₂F₄O)_bCF₂-、 -CF(CF₃)O-(CF₂CF(CF₃)O)_c-C_nF_2nO-(CF(CF₃)CF₂O)_c-CF(CF₃)-和 -(CF₂)₃O(C₄F₈O)_d(CF₂)₃-，其中a、b、c和d中的每一个都可以为0，并 且a+b+c+d为至少1，n为1至6。

3.根据权利要求1所述的模具，其中R_f为单价全氟醚基团。

4.根据权利要求1所述的模具，其中所述氧化的图案化有机硅模 具表面包括经过火焰处理、离子束处理、电子束处理、电晕处理、等 离子处理、静电放电处理和光处理的图案化有机硅表面。

5.根据权利要求1所述的模具，其中所述脱模剂包含自组装单层 (SAM)。

6.根据权利要求1所述的模具，其中所述有机硅模具包含选自以 下的固化的有机硅：加成固化性有机硅、缩合固化性有机硅、自由基 固化性有机硅和阳离子固化性有机硅。

7.根据权利要求1所述的模具，其中所述氧化的图案化表面的图 案元件的横截面的独立的高度和宽度尺寸为100纳米至15,000微米， 并具有10纳米至15,000微米的重复距离。

8.根据权利要求1所述的模具，其中所述全氟醚硅烷层的厚度小 于100埃。