[发明专利]光屏蔽膜

权利要求书

1.一种包含光屏蔽层的光屏蔽膜，所述光屏蔽层包含有机树脂和黑 材，

所述光屏蔽膜是由所述光屏蔽层或包含基材和所述光屏蔽层的多层 膜组成的膜，

其中，用于所述基材的材料包括选自由聚酰亚胺树脂和聚醚酮树脂 组成的组中的至少一种材料，

其中，所述有机树脂是可固化树脂的固化产物或具有150℃以上的 玻璃化转变温度的热塑性树脂，

其中所述可固化树脂的固化产物是聚酰亚胺树脂，且所述具有150℃ 以上的玻璃化转变温度的热塑性树脂是选自由聚酰亚胺树脂和聚醚酮树 脂组成的组中的至少一种树脂，

其中，所述光屏蔽膜的至少一个表面的光泽度等于或小于20，

其中，所述有机树脂能使用溶剂可溶性有机树脂原料获得，

其中，所述溶剂可溶性有机树脂原料是聚酰胺酸，

其中，所述光屏蔽膜的至少一个表面具有粗糙结构，

其中，所述光屏蔽膜的表面的算术平均偏差Ra等于或大于0.3μm，

其中，在空气氛围下于260℃加热2分钟之前和之后，所述光屏蔽 膜在长度、宽度和厚度上均显示出10%以下的尺寸变化，

其中，所述光屏蔽膜被用于能经受回流焊工艺的透镜单元中。

2.权利要求1所述的光屏蔽膜的制备方法，

其中，所述光屏蔽膜的至少一个表面具有粗糙结构，

所述制备方法包括通过转移法形成所述光屏蔽膜的粗糙表面的表面 粗糙度形成步骤。

3.如权利要求2所述的光屏蔽膜的制备方法，

其中，所述制备方法包括涂敷光屏蔽树脂组合物的涂布步骤，并且

所述表面粗糙度形成步骤与所述涂布步骤同时进行或在所述涂布步 骤之后进行。

4.如权利要求2或3所述的光屏蔽膜的制备方法，

其中，在所述表面粗糙度形成步骤中，所述光屏蔽膜的一个粗糙表 面和所述光屏蔽膜的另一个粗糙表面同时形成或相继形成。

5.如权利要求2或3所述的光屏蔽膜的制备方法，

其中，所述表面粗糙度形成步骤包括在转移层上形成由光屏蔽树脂 组合物制成的涂布膜的步骤。

6.如权利要求2或3所述的光屏蔽膜的制备方法，

其中，所述表面粗糙度形成步骤包括使由光屏蔽树脂组合物制成的 膜与转移层接触的步骤。

7.如权利要求2或3所述的光屏蔽膜的制备方法，

其中，所述表面粗糙度形成步骤包括使所述光屏蔽膜与转移层接触 的步骤。

8.一种包含透镜和权利要求1所述的光屏蔽膜的透镜单元。