[发明专利]发光元件的元件层结构设计的评价方法及评价装置以及发光元件

权利要求书

1.一种发光元件的元件层结构设计的评价方法，其通过信息处理装 置对来自包括层叠有含有发光层的4层以上的薄膜的结构的发光元件的射 出光进行评价，其中，该评价方法包括：

输入步骤，输入表示构成所述发光元件的所述薄膜的参数、及来自所 述发光层的发出光的光谱的信息；

光谱计算步骤，基于在所述输入步骤输入的参数，生成表示仅在所述 薄膜的层叠方向分割为网格的所述发光元件的信息，应用该生成的信息、 及在所述输入步骤输入的表示来自所述发光层的发出光的光谱的信息，利 用FDTD法计算来自该发光元件的射出光的光谱；

光谱信息输出步骤，输出表示在所述光谱计算步骤计算的来自所述发 光元件的射出光的光谱的信息。

2.如权利要求1所述的发光元件的元件层结构设计的评价方法，其 特征在于，所述薄膜的参数包括该薄膜的厚度及折射率。

3.如权利要求1所述的发光元件的元件层结构设计的评价方法，其 特征在于，

在所述输入步骤输入多个发光元件所涉及的所述薄膜的参数，

所述评价方法还包括参数输出步骤，判断在所述光谱信息输出步骤中 输出的表示来自各发光元件的射出光的光谱的信息是否满足预先设定的 规定的条件，并输出判断为满足该条件的表示该射出光的光谱的信息所涉 及的发光元件的、在所述输入步骤输入的所述薄膜的参数。

4.如权利要求3所述的发光元件的元件层结构设计的评价方法，其 特征在于，所述预先设定的规定条件是，该射出光的光谱的峰值频率的强 度相对于来自所述发光层的发出光的光谱的峰值频率的强度之比值为规 定的阈值以上。

5.一种发光元件的元件层结构设计的评价装置，其对来自包括层叠 有含有发光层的4层以上的薄膜的结构的发光元件的射出光进行评价，其 中，该评价装置具备：

输入装置，其输入表示构成所述发光元件的所述薄膜的参数、及来自 所述发光层的发出光的光谱的信息；

光谱计算装置，其基于通过所述输入装置输入的参数，生成表示仅在 所述薄膜的层叠方向分割为网格的所述发光元件的信息，应用该生成的信 息、及由所述输入装置输入的表示来自所述发光层的发出光的光谱的信 息，利用FDTD法计算来自该发光元件的射出光的光谱；

光谱信息输出装置，其输出表示由所述光谱计算装置计算的来自所述 发光元件的射出光的光谱的信息。

6.一种发光元件，由通过权利要求1～4中任一项所述的发光元件的 元件层结构设计的评价方法评价并输出的信息所表示的所述射出光的光 谱的峰值频率的强度相对于来自所述发光层的发出光的光谱的峰值频率 的强度之比值为6.5以上。