[发明专利]膜及其生产方法和用途无效
申请号: | 200880100034.0 | 申请日: | 2008-05-26 |
公开(公告)号: | CN101754794A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 伊丹雄二郎;加瀬晃 | 申请(专利权)人: | 富士胶片制造欧洲有限公司 |
主分类号: | B01D53/22 | 分类号: | B01D53/22;B01D69/10;B01D71/52;B01D67/00 |
代理公司: | 北京市德恒律师事务所 11306 | 代理人: | 梁永 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 及其 生产 方法 用途 | ||
1.一种制备膜的方法,包括以下步骤:
(i)提供一种含有可聚合化合物的组合物,所述化合物具有至少25个氧乙烯基和至少2个未取代乙烯基基团;
(ii)将所述组合物涂覆到支撑物上从而在所述支撑物上形成连续层;
(iii)聚合所述组合物从而形成非多孔聚合物膜。
(iv)可选地从所述支撑物上分离所述聚合物膜;
(v)可选地冲洗和/或干燥所述聚合物膜。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述可聚合化合物具有至少25个但不超过44个氧乙烯基。
3.根据前述权利要求任一项所述的方法,其中所述可聚合化合物具有两个乙烯基基团。
4.根据前述权利要求任一项所述的方法,其中所述乙烯基基团的至少之一是丙烯酸酯基团。
5.根据前述权利要求任一项所述的方法,其中所述组合物含有以下组分:
(i)占总重3重量%~80重量%的所述可聚合化合物;
(ii)占总重0重量%~75重量%的具有一个(仅具有一个)乙烯基不饱和基团的化合物;
(iii)占总重0重量%~10重量%的其它添加剂;
其中,用液体介质平衡至100重量%。
6.根据前述权利要求任一项所述的方法,其中所述支撑物是多孔的。
7.根据前述权利要求任一项所述的方法,其中所述聚合反应通过采用一个或多个紫外灯辐照所述组合物而将所述组合物暴露于紫外辐射实施。
8.根据前述权利要求任一项所述的方法,其中所述膜以至少15m/min的速率生产。
9.根据前述权利要求任一项所述的方法,其中所述可聚合的化合物含有至少70重量%的氧乙烯基。
10.根据前述权利要求任一项所述的方法,其中所述非多孔聚合物膜含有至少60重量%氧乙烯基。
11.一种根据前述权利要求任一项所述的方法可获得的膜。
12.根据权利要求11所述的膜,其中所述膜在20℃的纯水渗透率小于6×10-8m3/m2·s·kPa。
13.一种含有至少一个卷芯和至少一种根据前述权利要求所述的膜的模件。
14.根据前述权利要求所述的膜在分离气体和/或蒸气中的用途,优选用于将非极性气体和/或蒸气与极性气体和/或蒸气分离。
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