[发明专利]包含氧乙烯基的膜无效
申请号: | 200880025222.1 | 申请日: | 2008-05-26 |
公开(公告)号: | CN101754797A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 伊丹雄二郎;加瀬晃 | 申请(专利权)人: | 富士胶片制造欧洲有限公司 |
主分类号: | B01D71/52 | 分类号: | B01D71/52 |
代理公司: | 北京市德恒律师事务所 11306 | 代理人: | 梁永 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包含 乙烯基 | ||
1.一种包括连续的基本上非多孔性的层的膜,所述膜可通过聚合包含一种化合物的组合物而获得,所述化合物包含至少70个氧乙烯基和至少2个可聚合基团。
2.一种包括连续的基本上非多孔性的层的膜,所述膜包含一种化合物的聚合产物,所述化合物包含至少70个-(-CH2-CH2O-)-(氧乙烯)基团和至少2个可聚合基团。
3.根据前述任一项权利要求所述的膜,其中,每一个所述可聚合基团包含乙烯基不饱和基团。
4.根据前述任一项权利要求所述的膜,其中,所述可聚合基团选自丙烯酸酯基团、甲基丙烯酸酯基团、丙烯酰胺基团、乙烯基醚基团、乙烯基酯基团、乙烯基酰胺基团、烯丙基醚基团、烯丙基酯基团、烯丙基胺基团、烯丙基酰胺基团、苯乙烯基团以及它们的组合。
5.根据前述任一项权利要求所述的膜,其中,所述可聚合基团的至少一个是丙烯酸酯基团或甲基丙烯酸酯基团。
6.根据前述任一项权利要求所述的膜,其中,所述可聚合基团中至少两个是丙烯酸酯基团或甲基丙烯酸酯基团。
7.根据前述任一项权利要求所述的膜,其中,所述化合物占所述待聚合的组合物的3-80重量%,优选5-60重量%。
8.根据前述任一项权利要求所述的膜,其中,所述氧乙烯基是由至少一个非氧乙烯基阻断的聚环氧乙烷链。
9.根据前述任一项权利要求所述的膜,其中,所述连续的基本上非多孔性的层包含至少60重量%的氧乙烯基。
10.根据前述任一项权利要求所述的膜,其中,所述膜在20℃的纯水渗透性低于6.10-8m3/m2·s·kPa。
11.根据前述任一项权利要求所述的膜,结合于一种多孔性支撑物。
12.一种模件,包括至少一个卷芯和至少一种根据前述任一项权利要求所述的膜。
13.一种用于制备根据权利要求1-11中任一项所述的膜的方法,包括以下步骤:
a.提供包含一种化合物的组合物,所述化合物包含至少70个氧乙烯基和至少2个可聚合基团;
b.将所述组合物涂覆到支撑物上;
c.聚合所述组合物,由此形成基本上非多孔性的聚合物膜;
d.可选地将所述聚合物膜与所述支撑物分离;
e.可选地清洗和/或干燥所述聚合物膜。
14.根据权利要求13所述的方法,其中,所述涂覆步骤是连续的并且所述聚合步骤包括将所述涂覆的层暴露于辐射,其中优选地所述暴露的持续时间少于1秒。
15.根据权利要求1-11中任一项所述的膜或根据权利要求12所述的模件在分离极性气体和/或蒸汽与非极性气体和/或蒸汽中的用途。
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