[发明专利]反胶体晶体无效
申请号: | 200880024702.6 | 申请日: | 2008-05-13 |
公开(公告)号: | CN101743211A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 曹健;丁观军;R·查拉利 | 申请(专利权)人: | 荷兰联合利华有限公司 |
主分类号: | C04B16/02 | 分类号: | C04B16/02;C09B69/00;C30B5/00;C30B29/60;G02B6/122;A61K8/00;C09D5/36 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 林毅斌;韦欣华 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 胶体 晶体 | ||
1.一种反胶体晶体,所述反胶体晶体包含
(i)在固体连续相中分散的规则孔阵列,和
(ii)至少一种广谱吸收对比剂和/或至少一种广谱吸收对比剂的前体物质。
2.权利要求1的反胶体晶体,其中孔具有0.05至50μm,优选0.05至40μm,更优选0.05至30μm的直径。
3.前述权利要求中任一项的反胶体晶体,其中广谱吸收对比剂加入固体连续相。
4.权利要求1或2的反胶体晶体,其中广谱吸收对比剂在固体连续相的表面上。
5.权利要求1或2的反胶体晶体,其中广谱吸收对比剂加入固体连续相和在固体连续相的表面上。
6.前述权利要求中任一项的反胶体晶体,其中广谱吸收对比剂为化合物的混合物,其中混合物具有与单一广谱吸收对比剂相同的吸收性质。
7.前述权利要求中任一项的反胶体晶体,其中广谱吸收对比剂选自Ag、炭黑、黑色氧化铁、氢氧化铁和氧化银黑。
8.前述权利要求中任一项的反胶体晶体,其中广谱吸收对比剂的前体选自金属盐,优选亲水金属盐,如硝酸盐或卤化物。
9.前述权利要求中任一项的反胶体晶体,其中广谱吸收对比剂的前体选自K、Ca、Sr、Ba、Zn、Pb、Fe、Ni、Ce、Co、Cr、Cu、Mn、Sn、Al、Ag、Mg、Au、Cd、硝酸银、卤化银、硝酸铁和卤化铁。
10.前述权利要求中任一项的反胶体晶体,其中固体连续相包括二氧化硅、金属氧化物、金属、金属硫属元素化物、金属磷属元素化物和/或有机聚合物。
11.前述权利要求中任一项的反胶体晶体,所述反胶体晶体包含基于反胶体晶体总重量最多5%重量的至少一种广谱吸收对比剂和/或至少一种广谱吸收对比剂的前体。
12.前述权利要求中任一项的反胶体晶体,所述反胶体晶体包含基于反胶体晶体总重量0.0001至3%重量,优选0.0001至1%重量,更优选0.0001至0.5%重量的至少一种广谱吸收对比剂和/或至少一种广谱吸收对比剂的前体。
13.前述权利要求中任一项的反胶体晶体,所述反胶体晶体包含基于反胶体晶体总重量最多99.9999%重量的固体连续相。
14.前述权利要求中任一项的反胶体晶体,所述反胶体晶体包含基于反胶体晶体总重量97至99.9999%重量,优选99至99.9999%重量,更优选99.5至99.9999%重量的固体连续相。
15.一种制备权利要求1至14中任一项的反胶体晶体的方法,其特征在于通过以下步骤进行:
(i)提供由单分散颗粒的规则阵列形成的胶体晶体,其中胶体晶体包含至少一种广谱吸收对比剂和/或至少一种广谱吸收对比剂的前体;
(ii)加入一种物质,以将固体引入胶体晶体中单分散颗粒之间的间隙中,并形成固体连续相;和
(iii)除去单分散颗粒,以在固体连续相中形成规则孔阵列。
16.一种制备权利要求1至14中任一项的反胶体晶体的方法,其特征在于通过以下步骤进行:
(i)提供由单分散颗粒的规则阵列形成的胶体晶体,其中胶体晶体包含至少一种广谱吸收对比剂和/或至少一种广谱吸收对比剂的前体;
(ii)加入一种物质,以将固体引入胶体晶体中单分散颗粒之间的间隙中,并形成固体连续相,其中所述物质包含至少一种广谱吸收对比剂和/或至少一种广谱吸收对比剂的前体;和
(iii)除去单分散颗粒,以在固体连续相中形成规则孔阵列。
17.一种制备权利要求1至14中任一项的反胶体晶体的方法,其特征在于通过以下步骤进行:
(i)提供由单分散颗粒的规则阵列形成的胶体晶体;
(ii)加入一种物质,以将固体引入胶体晶体中单分散颗粒之间的间隙中,并形成固体连续相,其中所述物质包含至少一种广谱吸收对比剂和/或至少一种广谱吸收对比剂的前体;和
(iii)除去单分散颗粒,以在固体连续相中形成规则孔阵列。
18.权利要求15至17的方法,其中单分散颗粒为二氧化硅球。
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