[发明专利]一种光刻胶清洗剂

权利要求书

1.一种光刻胶清洗剂，其特征在于含有：季铵氢氧化物、水、烷基二醇芳基醚、 二甲基亚砜和聚羧酸类缓蚀剂；烷基二醇芳基醚中烷基二醇的碳原子数目为 3～18，其中，所述的烷基二醇芳基醚为丙二醇单苯基醚、异丙二醇单苯基醚、 二乙二醇单苯基醚、二丙二醇单苯基醚、二异丙二醇单苯基醚、三乙二醇单 苯基醚、三丙二醇单苯基醚、三异丙二醇单苯基醚、六缩乙二醇单苯基醚、 六缩丙二醇单苯基醚、六缩异丙二醇单苯基醚、丙二醇单苄基醚、异丙二醇 单苄基醚或己二醇单萘基醚。

2.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的季铵氢氧化物为四 甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵或苄基 三甲基氢氧化铵。

3.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的季铵氢氧化物的含 量为质量百分比0.1～15％。

4.如权利要求3所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的季铵氢氧化物的含 量为质量百分比0.5～10％。

5.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的水的含量为质量百 分比0.1～40％。

6.如权利要求5所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的水的含量为质量百 分比0.5～25％。

7.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚的 含量为质量百分比1～50％。

8.如权利要求7所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚的 含量为质量百分比5～30％。

9.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的二甲基亚砜的含量 为质量百分比1～98％。

10.如权利要求9所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的二甲基亚砜的含量 为质量百分比50～90％。

11.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的聚羧酸类缓蚀剂为 聚丙烯酸或其共聚物、聚甲基丙烯酸或其共聚物、聚丙烯酸醇胺盐、聚甲基 丙烯酸醇胺盐、聚氧乙烯改性聚丙烯酸或其衍生物、聚氧乙烯改性聚甲基丙 烯酸或其衍生物、聚环氧琥珀酸、聚天冬氨酸、含羧基的聚己内酯或含羧基 的聚丙交酯。

12.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的聚羧酸类缓蚀剂的 含量为质量百分比0.01～5％。

13.如权利要求12所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的聚羧酸类缓蚀剂 的含量为质量百分比0.05～2.5％。

14.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的光刻胶清洗剂还含 有极性有机共溶剂、表面活性剂和除聚羧酸类以外的其它缓蚀剂中的一种或 多种。

15.如权利要求14所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的极性有机共溶剂 的含量为质量百分比0～50％；所述的表面活性剂的含量为质量百分比0～5％； 所述的除聚羧酸类以外的其它缓蚀剂的含量为质量百分比0～10％。

16.如权利要求15所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的极性有机共溶剂 的含量为质量百分比5～30％；所述的表面活性剂的含量为质量百分比 0.05～3％；所述的除聚羧酸类以外的其它缓蚀剂的含量为质量百分比0.1～5％。

17.如权利要求14所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的极性有机共溶剂 为亚砜、砜、咪唑烷酮、醇胺和烷基二醇单烷基醚中的一种或多种；烷基二 醇单烷基醚中烷基二醇的碳原子数目为3～18；所述的表面活性剂为聚乙烯 醇、聚乙烯吡咯烷酮或聚氧乙烯醚；所述的除聚羧酸类以外的其它缓蚀剂为 醇胺类、唑类、羧酸类或膦酸类缓蚀剂。

18.如权利要求17所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的亚砜为二乙基亚 砜或甲乙基亚砜。