[发明专利]圆筒形溅射靶有效
| 申请号： | 200880022992.0 | 申请日： | 2008-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN101688293A | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | 户床茂久;伊藤谦一;涩田见哲夫 | 申请（专利权）人： | 东曹株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 圆筒 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种圆筒形溅射靶，其特征在于，
由陶瓷材料构成的圆筒形靶材的外周面的磨削方向与平行 于圆筒轴线的直线所构成的角度θ1为45°＜θ1≤90°，将上述角度 中的0°以上且在90°以下的角度视为θ1，且上述圆筒形靶材的外 周面的表面粗糙度Ra为3μm以下。
2.一种圆筒形溅射靶，其特征在于，
由陶瓷材料构成的圆筒形靶材的外周面的磨削方向与平行 于圆筒轴线的直线所构成的角度θ2为tanθ2＞ΠR/L，将上述角度 中的0°以上且在90°以下的角度视为θ2，R是圆筒形靶材的外 径、L是圆筒形靶材的长度，且上述圆筒形靶材的外周面的表 面粗糙度Ra为3μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的圆筒形溅射靶，其特征在于，
圆筒形靶材是以从由In、S n、Zn、Al、Ta、Nb以及Ti组 成的组中选出的至少1种为主要成分的氧化物。
4.根据权利要求1或2所述的圆筒形溅射靶，其特征在于，
圆筒形靶材由ITO或AZO构成。
5.根据权利要求4所述的圆筒形溅射靶，其特征在于，
由ITO或AZO构成的圆筒形靶材的相对密度在90％以上。
6.根据权利要求4所述的圆筒形溅射靶，其特征在于，
由ITO或AZO构成的圆筒形靶材的相对密度在99％以上。
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