[发明专利]AI-Ti-Ru-N-C硬质材料涂层有效
申请号: | 200880022837.9 | 申请日: | 2008-06-26 |
公开(公告)号: | CN101688299A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
发明(设计)人: | 马丁·卡特赖因 | 申请(专利权)人: | 森拉天时奥地利有限公司 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/36;C22C29/02;C22C29/16 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁业平;张天舒 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 奥地利;AT |
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摘要: | |||
搜索关键词: | ai ti ru 硬质 材料 涂层 | ||
1.一种含有Al和Ti的单层或多层的氮化或碳氮化硬质材料涂 层,该涂层的特征在于:至少一个涂层具有以下组成,
(AlxTiyRuzMev)(NaC1-a),其中
0.45≤x≤0.75;
0.2≤y≤0.55;
0.001≤z≤0.1;
0≤v≤0.2
0.9≤(x+y+z+v)≤1.1
0.8≤a≤1.0;
其中Me为选自由Si、B、W、Mo、Cr、Ta、Nb、V、Hf和Zr 所组成的组中的一种或多种元素,并且v为这些元素的总含量。
2.根据权利要求1所述的硬质材料涂层,其特征在于: x+y+z+v=1。
3.根据权利要求1或2所述的硬质材料涂层,其特征在于:v=0。
4.根据权利要求1或2所述的硬质材料涂层,其特征在于:
对于Si、B而言,0.001≤v≤0.01
对于Cr、Mo、W而言,0.01≤v≤0.1
对于V、Nb、Ta、Zr、Hf而言,0.01≤v≤0.2。
5.根据权利要求1或2所述的硬质材料涂层,其特征在于:0.9 ≤a≤1。
6.根据权利要求5所述的硬质材料涂层,其特征在于a=1。
7.根据权利要求1或2所述的硬质材料涂层,其特征在于:主 要晶体结构为立方结构。
8.根据权利要求1或2所述的硬质材料涂层,其特征在于:0.005 ≤z≤0.06。
9.根据权利要求1所述的硬质材料涂层,其特征在于:所述涂 层具有多层结构。
10.根据权利要求9所述的硬质材料涂层,其特征在于:其中 0.001≤z≤0.1的层与其中z=0的层交替层叠。
11.根据权利要求10所述的硬质材料涂层,其特征在于:其中 0.62≤x≤0.72、0.27≤y≤0.39、0.005≤z≤0.05、v=0的层与其中0.45 ≤x≤0.55、0.45≤y≤0.55、z=0、v=0的层交替层叠。
12.根据权利要求9至11中任意一项所述的硬质材料涂层,其 特征在于:所述多层结构的各层的厚度分别为5nm至30nm。
13.根据权利要求10或11所述的硬质材料涂层,其特征在于: 其中z=0的层的晶体结构为立方结构。
14.根据权利要求1至13中任意一项所述的硬质材料涂层用于 涂敷立方氮化硼的用途。
15.根据权利要求1至13中任意一项所述的硬质材料涂层用于 涂敷硬质合金的用途。
16.一种具有根据权利要求1至9中任意一项所述的硬质材料涂 层的车刀,其特征在于:0.01≤z≤0.06,并且所述涂层的厚度为3μm 至14μm。
17.一种具有根据权利要求1至9中任意一项所述的硬质材料涂 层的铣刀,其特征在于:0.005≤z≤002,并且所述涂层的厚度为2μm 至8μm。
18.一种制造根据权利要求1至13中任意一项所述的硬质材料 涂层的方法,其特征在于:通过PVD沉积所述涂层。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的