[发明专利]有机薄膜清洗用溶剂

说明书

技术领域

本发明涉及适合于有机薄膜的清洗的有机溶剂。 

背景技术

以往，在各种领域中进行着根据目的而对由玻璃、金属、塑料、陶瓷等形成的基板的表面进行改性的操作。例如，为了对玻璃、塑料的表面赋予疏水性、疏油性，可以举出涂布硅烷系偶联剂的方法。 

涂布硅烷系偶联剂的工序中，例如有以下的方法。 

用纯水、醇类等清洗未处理的基板后，通过UV臭氧处理等方法使基材表面活化。然后，将基板浸渍于装有硅烷系偶联剂的槽中，在基板上涂布硅烷系偶联剂。将基板从浸渍槽中取出后，用有机溶剂清洗基板，进行干燥。 

在此，为了除去基材表面上残存的多余的有机溶剂溶液、杂质，得到耐热性、耐久性等膜物性更优异的有机薄膜，清洗工序是必要的。另外，通过清洗还可以控制膜厚。 

作为用于清洗的溶剂，例如有石蜡类、芳香族烃、脂环式烃、卤化物、酮类等，具体而言，使用戊烷、己烷、庚烷、辛烷、异辛烷、苯、甲苯、二甲苯、环己烷、轻石油、石油醚、氯仿、二氯甲烷、丙酮等(专利文献1、2及非专利文献1等)。 

作为用溶剂进行清洗的方法，只要是能将与薄膜成型溶液接触的基材表面的附着物除去的方法，就没有特别限制，具体而言，有使与有机薄膜形成用溶液接触的基材浸渍于溶剂中的方法，或喷雾烃系有机溶剂的方法等。 

然而，利用目前的清洗溶剂例如己烷、二甲苯等，不能得到无膜成分脱落的薄膜。 

专利文献1：特开2006-283011号公报 

专利文献2：特开2004-91503号公报 

非专利文献1：Langmuir 2000，16，3932-3936 

发明内容

本发明是鉴于上述实际情况而完成的，目的在于形成与上述以往的方法相比膜成分脱落少的有机薄膜。 

发明人等为解决上述课题而进行了深入研究，结果发现通过选择特定的有机溶剂，可以形成膜成分脱落少的有机薄膜，从而完成了本发明。 

即，本发明涉及： 

(1)一种有机薄膜的清洗用溶剂，通过KOH使正十八烷基三甲氧基硅烷水解缩聚而得到的聚合物在25℃的溶解度为100～400mg/g； 

(2)根据上述(1)所述的有机薄膜的清洗用溶剂，其特征在于，有机薄膜是由有机硅烷化合物形成的； 

(3)根据上述(1)或(2)所述的有机薄膜的清洗用溶剂，其特征在于，溶剂是含有至少1种式(I)所示化合物的芳香族烃系溶剂， 

(式中，各R可以相同或不同，表示C₁-C₁₈烷基；n表示2、3或4)； 

(4)根据上述(1)～(3)中任一项所述的有机薄膜的清洗用溶剂，其特征在于，溶剂是二乙基苯或Solvesso(注册商标)；以及 

(5)一种有机薄膜的制造方法，其特征在于，包括： 

(a)通过使基材与有机薄膜形成用溶液接触，从而在基材表面形成有机薄膜，所述有机薄膜形成用溶液含有具有至少1个以上水解性基团或羟基的金属系表面活性剂、和能与该金属系表面活性剂相互作用的催化剂， 

(b)然后，用上述(1)～(4)中任一项所述的有机薄膜的清洗用溶剂进行清洗。 

具体实施方式

(1)清洗用溶剂 

本发明的有机薄膜的清洗用溶剂是在基材上形成有机薄膜后，为了除去多余的有机薄膜成分、有机薄膜层而使用的。 

本发明的有机薄膜的清洗用溶剂只要能将形成下述所示的有机薄膜的有机硅烷化合物及其交联物适度溶解，就没有特别限制。 

在本发明中，所谓能将有机硅烷化合物及其交联物适度溶解的清洗溶剂，必须具备下述要件。 

1)具有可以除去在基材上层叠的有机薄膜中多余的层这种程度的溶解力。 

2)溶解力不过大，即，溶解力不会大到因过度溶解有机薄膜成分而溶解基材上结合的膜的一部分从而产生膜脱落的程度。 

作为这样的溶剂，优选如下的溶剂：将正十八烷基三甲氧基硅烷35g溶解于甲醇1L中后，加入0.2N的KOH20g，在室温下使之水解缩聚约2周，将生成的沉淀物过滤、清洗、干燥从而得到聚合物，所得聚合物(用MALDI-TOFMS进行测定时，最大分子量约为4000的聚合物的聚集体)在25℃的溶解度为100～400mg/g的溶剂。 

作为符合上述条件的有机溶剂，有以下的式(I)所示的芳香族烃系化合物。