[发明专利]发光二极管无效
申请号: | 200880020528.8 | 申请日: | 2008-06-09 |
公开(公告)号: | CN101681971A | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
发明(设计)人: | 弗拉德斯拉夫·E·鲍格诺夫;马克西姆·A·欧得诺莱多夫 | 申请(专利权)人: | 奥普特冈有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 颜 涛;郑 霞 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光二极管 | ||
1.一种在电绝缘的衬底(4)上生成的LED芯片(1),所述LED芯 片包括第一传导类型的下部电流分配层(5)、第一电极(2)、垂直层状结 构(5,6,7),所述第一电极(2)和所述垂直层状结构(5,6,7)被水 平地彼此分离地形成在所述下部电流分配层上,所述垂直层状结构包括活 性层(6)和位于所述活性层上方的第二传导类型的上部电流分配层(8), 以及在所述上部电流分配层上生成的第二电极(3),所述第一电极(2) 和所述第二电极(3)的几何形状为指叉型几何形状,且所述第一电极(2) 和所述第二电极(3)的几何形状被调整以在所述第一电极(2)和所述第 二电极(3)之间提供低于所述LED芯片的电流散布长度的水平距离,所 述LED芯片的特征在于
垂直沟槽(9),其在所述第一电极(2)和所述第二电极(3)之间、 在所述第一电极(2)或所述第二电极(3)的手指状突起的尖端部位处被 形成,所述沟槽延伸穿过包括下部电流分配层(5)的所述LED芯片(1), 以控制水平电流流动,以便在所述活性层(6)上实现均匀的电流密度。
2.如权利要求1所述的LED芯片(1),其特征在于附加的垂直沟槽 (11)被形成在所述第一电极(2)和所述第二电极(3)之间,所述附加 的垂直沟槽沿着所述下部电流分配层(5)和所述上部电流分配层(8)中 水平的电流流动方向,延伸穿过包括所述活性层(6)的所述LED芯片(1), 以增加所述垂直层状结构(5,6,7)的总周长,并且因此提高光从所述 LED芯片中的提取。
3.如权利要求1或2所述的LED芯片(1),其特征在于所述垂直层 状结构(5,6,7)的侧壁(12)是偏离于垂直方向倾斜的,以促进光从 所述LED芯片(1)中的提取。
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