[发明专利]机床监测装置

权利要求书

1.机床监测装置，具有识别装置(32)，它设计用于借助于对辐射 (S)的谱分析处理而对于在机床工作部位(34)里的材料种类进行存 在识别，识别装置(32)具有传感器单元(50)，传感器单元具有至少 一个用于在第一波长范围(WL₂)内检测辐射的敏感范围(64)，该敏 感范围至少部分地在红外谱(72)里，其特征在于，识别装置(32)具 有发射单元(48)，它设计用于发射在该第一波长范围(WL₂)内的和 在红外谱的至少另一个波长范围内的辐射，发射单元(48)设计用于脉 动地发射至少一个波长范围(WL₁，WL₂，WL_3，WL₄)的辐射，其中借助 于对在识别装置(32)的反应范围(36)里的在检查物体上反射的辐射 (S_R)的反射谱的分析处理，来识别人体组织的存在，其中所述反射谱 与辐射(S_R)的波长有关地对应于信号强度的分布。

2.按权利要求1所述的机床监测装置，其特征在于，所述第一波长 范围(WL₂)是近中的红外范围。

3.按权利要求1所述的机床监测装置，其特征在于，所述至少另一 个波长范围(WL₁)的辐射位于可见谱范围(70)里。

4.按权利要求1所述的机床监测装置，其特征在于，所述至少另一 个波长范围(WL₁)的辐射位于紫外谱范围(68)里。

5.按权利要求1或2所述的机床监测装置，其特征在于光学单元 (54)，它设计用于确定识别装置(32)的反应范围(36)，其中该光 学单元(54)设置在发射单元(48)和传感器单元(50)的前面。

6.按权利要求1或2所述的机床监测装置，其特征在于，传感器单 元(50)具有至少另一个敏感范围，该另一个敏感范围设计用于在另一 个波长范围(WL₁)里检测辐射。

7.按权利要求1或2所述的机床监测装置，其特征在于，识别装置 (32)具有分析处理部件(80)，它设计用于借助至少两个辐射特征值 (V₁，V₂，V₃)的关系来识别材料种类的存在。

8.按权利要求7所述的机床监测装置，其特征在于，所述至少两个 辐射特征值(V₁，V₂，V₃)分别配属于在不同的波长范围(WL₁，WL₂，WL₃) 里的辐射部分。

9.按权利要求1或2所述的机床监测装置，其特征在于，至少一个 波长范围(WL₁，WL₂，WL₃)设计成窄带的。

10.按权利要求1或2所述的机床监测装置，其特征在于，识别装 置(32)具有至少两个发射单元(48)和/或至少两个接收单元(50)。

11.按权利要求1或2所述的机床监测装置，其特征在于，所述第 一波长范围(WL₂)是在约700nm和3000nm之间的范围。

12.机床，具有按上述权利要求之一所述的机床监测装置。

13.按权利要求12所述的机床，其特征在于，该机床是切割机床或 锯削机床。