[发明专利]处理装置有效
| 申请号: | 200880018879.5 | 申请日: | 2008-05-29 |
| 公开(公告)号: | CN101681867A | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
| 发明(设计)人: | 野村正道;小泉建次郎;河西繁 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/205;H01L21/26 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙 淳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 处理 装置 | ||
1.一种处理装置,其特征在于,包括:
容纳被处理体并且由非磁性体构成的处理容器;
旋转悬浮体,其配置在所述处理容器的内部,并且支撑所述被处 理体;
悬浮用电磁铁组件,其配置在所述处理容器的外部,使磁吸引力 向垂直方向上方作用,以与所述处理容器的内壁非接触地悬吊的方式, 使所述旋转悬浮体悬浮;
位置用电磁铁组件,其配置在所述处理容器的外部,使磁吸引力 作用于悬浮的所述旋转悬浮体,控制水平方向位置;
旋转用电磁铁组件,其配置在所述处理容器的外部,使磁吸引力 作用于悬浮的所述旋转悬浮体,并使该旋转悬浮体旋转;和
处理机构,其对被支撑在所述旋转悬浮体上的被处理体实施规定 的处理,其中
所述悬浮用电磁铁组件具有:
被配置在所述处理容器的外部,并通过轭将背面侧连接的一对电 磁铁;和
一对电磁铁侧悬浮用强磁性体,其在所述处理容器的内部,在所 述一对电磁铁的各个的正面侧的下方,隔着规定间隙与悬浮体侧悬浮 用强磁性体相对配置,并且向所述悬浮体侧悬浮用强磁性体作用磁吸 引力,
由所述一对电磁铁、所述轭、所述一对电磁铁侧悬浮用强磁性体 和所述悬浮体侧悬浮用强磁性体形成闭合的磁回路。
2.如权利要求1所述的处理装置,其特征在于:
所述旋转悬浮体具备在其侧方沿径向具有规定宽度的悬浮体侧悬 浮用强磁性体。
3.如权利要求2所述的处理装置,其特征在于:
所述悬浮体侧悬浮用强磁性体形成为平板的环状。
4.如权利要求1所述的处理装置,其特征在于:
所述悬浮体侧悬浮用强磁性体形成为平板的环状,
所述电磁铁侧悬浮用强磁性体沿着所述悬浮体侧悬浮用强磁性体 在周方向上延展。
5.如权利要求1所述的处理装置,其特征在于:
所述处理容器具有在其外壁向上开口并且从所述处理容器的外部 上方嵌合有所述一对电磁铁的有底孔,
所述电磁铁侧悬浮用强磁性体隔着所述有底孔内侧的薄壁,与所 述处理容器外部的所述一对电磁铁相对设置。
6.如权利要求1所述的处理装置,其特征在于:
所述处理容器具有在其外壁沿垂直方向贯通并且从所述处理容器 的外部上方嵌合有所述一对电磁铁的贯通孔,
在所述贯通孔和所述一对电磁铁之间安装有密封部件,
所述电磁铁侧悬浮用强磁性体安装在所述处理容器外部的所述一 对电磁铁上。
7.如权利要求1所述的处理装置,其特征在于:
所述悬浮用电磁铁组件,在所述旋转悬浮体的外周至少配置有3 个。
8.如权利要求1所述的处理装置,其特征在于:
还具有检测所述旋转悬浮体的垂直方向的位置信息的垂直方向位 置传感器。
9.如权利要求8所述的处理装置,其特征在于:
还具有控制单元,其基于由所述垂直方向位置传感器检测出的所 述旋转悬浮体的垂直方向的位置信息,计算当前时刻的垂直方向位置、 倾斜度、变位速度和加速度,接着计算它们的最佳值,向所述悬浮用 电磁铁组件的电磁铁供给控制电流。
10.如权利要求1所述的处理装置,其特征在于:
所述旋转悬浮体具备在其侧方沿垂直方向具有规定宽度的悬浮体 侧控制用强磁性体。
11.如权利要求10所述的处理装置,其特征在于:
所述悬浮体侧控制用强磁性体形成为圆筒状。
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