[发明专利]具有深度鉴别的光学再现的方法和装置有效

专利信息
申请号: 200880018509.1 申请日: 2008-04-11
公开(公告)号: CN101680749A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 迈克尔·施韦特纳 申请(专利权)人: 迈克尔·施韦特纳
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24;G02B21/00;G02B21/16;G06T7/00;G01N21/64
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 秦 晨
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 具有 深度 鉴别 光学 再现 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种用于实施具有深度鉴别的光学再现的方法的产生光学截面 图像的装置,该装置包括照明单元、用于把样本成像到至少一个空间 分辨检测器上的光学装置、聚焦装置以及信号处理单元,

其中,

照明单元在无需任何移动机械元件的情况下在样本中或样本上仅 产生两种不同的照明分布,这些照明分布在至少一个空间方向上具有 周期性,产生照明分布的样本平面与相应的空间分辨检测器的平面共 轭,由于与照明光的相互作用而得到的样本内的光分布被同时地登记 于所述一个或多个空间分辨检测器上,并被提供给信号处理单元,以 便计算和产生光学截面图像,

其中,进一步地,两种照明分布同时被投影并被检测,其中,用 于这两种投影的光在偏振和/或光谱成分方面不同,其中,照明光的 这些不同性质导致从样本同时发射的光分布的不同性质,并且从样本 发射的光的这些性质用于在检测侧分离照明图案。

2.如权利要求1所述的产生光学截面图像的装置,

其中,

为了校准在一个或多个检测器上登记的光分布,存在校准物体, 校准物体代替样本被插入,或者能够被放到光学系统中的位置或安装 在与样本共轭的像平面中。

3.如权利要求2所述的产生光学截面图像的装置,

其中,存在所述校准物体以校准照明图案的相位和/或局部周期 和/或均匀性。

4.如权利要求2所述的产生光学截面图像的装置,

其中,校准物体具有同质的和/或已知的样本性质。

5.如权利要求2所述的产生光学截面图像的装置,

其中,校准物体是平坦的。

6.如权利要求1所述的产生光学截面图像的装置,

其中,

所述一个或多个空间分辨检测器检测从样本发射的荧光和/或冷 光,其中,通过照明单元激发的时间调制结合同步检测或时间分辨检 测来实施,并且确定荧光和/或冷光寿命。

7.如权利要求1所述的产生光学截面图像的装置,

其中,

用于在样本中或样本上产生照明分布的照明单元使用透射和/或 反射中的掩模或相位掩模或像素化元件,或者通过平面波的干涉来产 生照明图案。

8.如权利要求1所述的产生光学截面图像的装置,

其中,

照明单元产生两种照明分布,这两种照明分布彼此移位180度。

9.如权利要求1所述的产生光学截面图像的装置,

其中,

这两种照明分布是通过掩模结构的前照明或后照明在照明单元内 产生的。

10.如权利要求1所述的产生光学截面图像的装置,

其中,

这两种照明分布是通过光源的电子切换和/或光纤开关的切换在 照明单元内配置的。

11.如权利要求1所述的产生光学截面图像的装置,

其中,

该装置允许对由照明单元发射的光和/或由所述至少一个空间分 辨检测器登记的光的光谱成分进行切换。

12.如权利要求1所述的产生光学截面图像的装置,

其中,

在用于产生照明分布的照明单元内使用的掩模预安装在部件更换 器内,其中,部件槽中的各掩模能够在图案尺寸或周期性方面不同, 光学系统内沿光轴的掩模的轴向位置能够在各部件槽之间不同并能够 被预对准,其中,掩模元件能够组合成具有光谱滤波器的单元。

13.如权利要求1所述的产生光学截面图像的装置,

其中,

两种照明分布同时投影到样本上或样本中并被检测,其中,用于 这两种投影的光在偏振和/或光谱成分方面不同,照明光的这些不同 性质导致从样本同时发射的光分布的不同性质,从样本发射的光的这 些性质用于在检测侧分离照明图案,这两种照明分布能够同时分布到 一个或多个空间分辨检测器。

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