[发明专利]光催化性涂布物及其光催化性涂布液有效
| 申请号: | 200880017632.1 | 申请日: | 2008-03-26 |
| 公开(公告)号: | CN101678398A | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
| 发明(设计)人: | 北崎聪;龟岛顺次;表敷浩二;高木洋二;田中裕希;岩田广长;早川信;菅野充诚 | 申请(专利权)人: | TOTO株式会社 |
| 主分类号: | B05D7/24 | 分类号: | B05D7/24;C09D1/00;C09D7/12;C09D183/04 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吴 娟;孙秀武 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光催化 性涂布物 及其 性涂布液 | ||
1.光催化剂涂布物,其包含基体材料和赋予于该基体材料上的光催 化剂层,该光催化剂层包含:
1质量份以上、小于20质量份的光催化剂粒子;
70质量份以上、小于99质量份的无机氧化物粒子;和
以二氧化硅计,0质量份以上、小于10质量份的可水解性硅酮,
前提条件为光催化剂粒子、无机氧化物粒子和可水解性硅酮的总量 为100质量份,
其中,无机氧化物具有10nm以上、小于40nm的个数平均粒径, 该粒径如下计算:随机挑选位于通过扫描电子显微镜放大200,000倍的 视野中的100个粒子,测量其长度,
其中,所述无机氧化物粒子选自二氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化 铈、氧化钇、氧化硼、氧化镁、氧化钙、氧化铁、无定型氧化钛、氧化 铪、钛酸钡和硅酸钙,
其中,光催化剂层进一步包含0质量份以上、小于10质量份的表 面活性剂。
2.权利要求1的光催化剂涂布物,其中,光催化剂层具有0.5-3.0μm 的涂膜厚度。
3.权利要求1或2的光催化剂涂布物,其中,光催化剂层实质上不 含可水解性硅酮。
4.权利要求1或2的光催化剂涂布物,其中,光催化剂层包含5-15 质量份的光催化剂粒子。
5.权利要求1或2的光催化剂涂布物,其中,光催化剂粒子为氧化 钛粒子。
6.权利要求1或2的光催化剂涂布物,其中,无机氧化物粒子为二 氧化硅粒子。
7.权利要求1或2的光催化剂涂布物,其中,所述基体材料至少具 有含有有机材料的表面。
8.权利要求7的光催化剂涂布物,其中,将光催化剂层直接涂布于 基体材料上。
9.权利要求1或2的光催化剂涂布物,其中,将光催化剂涂布物用 作外部材料。
10.用于生产权利要求1或2的光催化剂涂布物的光催化剂涂布液, 其在溶剂中包含:
1质量份以上、小于20质量份的光催化剂粒子;
70质量份以上、小于99质量份的无机氧化物粒子;和
以二氧化硅计,0质量份以上、小于10质量份的可水解性硅酮,
前提条件是光催化剂粒子、无机氧化物粒子和可水解性硅酮的总量 为100质量份,
其中,无机氧化物具有10nm以上、小于40nm的个数平均粒径, 该粒径如下计算:随机挑选位于通过扫描电子显微镜放大200,000倍的 视野中的100个粒子,测量其长度,
其中所述无机氧化物粒子选自二氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化铈、 氧化钇、氧化硼、氧化镁、氧化钙、氧化铁、无定型氧化钛、氧化铪、 钛酸钡和硅酸钙,
其进一步包含0质量份以上、小于10质量份的表面活性剂。
11.权利要求10的光催化剂涂布液,其实质上不含可水解性硅酮。
12.权利要求10或11的光催化剂涂布液,其包含5-15质量份的光 催化剂粒子。
13.权利要求10或11的光催化剂涂布液,其中,光催化剂粒子为 氧化钛粒子。
14.权利要求10或11的光催化剂涂布液,其中,无机氧化物粒子 为二氧化硅粒子。
15.权利要求10或11的光催化剂涂布液,其中,将光催化剂涂布 液用于在至少具有含有有机材料的表面的基体材料上涂布涂层。
16.权利要求15的光催化剂涂布液,其中,将光催化剂涂布液直接 涂布于所述基体材料上。
17.权利要求10或11的光催化剂涂布液,其中,将光催化剂涂布 液用于涂布外部材料。
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