[发明专利]光催化性涂布物及其光催化性涂布液有效

专利信息
申请号: 200880017632.1 申请日: 2008-03-26
公开(公告)号: CN101678398A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 北崎聪;龟岛顺次;表敷浩二;高木洋二;田中裕希;岩田广长;早川信;菅野充诚 申请(专利权)人: TOTO株式会社
主分类号: B05D7/24 分类号: B05D7/24;C09D1/00;C09D7/12;C09D183/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴 娟;孙秀武
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光催化 性涂布物 及其 性涂布液
【权利要求书】:

1.光催化剂涂布物,其包含基体材料和赋予于该基体材料上的光催 化剂层,该光催化剂层包含:

1质量份以上、小于20质量份的光催化剂粒子;

70质量份以上、小于99质量份的无机氧化物粒子;和

以二氧化硅计,0质量份以上、小于10质量份的可水解性硅酮,

前提条件为光催化剂粒子、无机氧化物粒子和可水解性硅酮的总量 为100质量份,

其中,无机氧化物具有10nm以上、小于40nm的个数平均粒径, 该粒径如下计算:随机挑选位于通过扫描电子显微镜放大200,000倍的 视野中的100个粒子,测量其长度,

其中,所述无机氧化物粒子选自二氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化 铈、氧化钇、氧化硼、氧化镁、氧化钙、氧化铁、无定型氧化钛、氧化 铪、钛酸钡和硅酸钙,

其中,光催化剂层进一步包含0质量份以上、小于10质量份的表 面活性剂。

2.权利要求1的光催化剂涂布物,其中,光催化剂层具有0.5-3.0μm 的涂膜厚度。

3.权利要求1或2的光催化剂涂布物,其中,光催化剂层实质上不 含可水解性硅酮。

4.权利要求1或2的光催化剂涂布物,其中,光催化剂层包含5-15 质量份的光催化剂粒子。

5.权利要求1或2的光催化剂涂布物,其中,光催化剂粒子为氧化 钛粒子。

6.权利要求1或2的光催化剂涂布物,其中,无机氧化物粒子为二 氧化硅粒子。

7.权利要求1或2的光催化剂涂布物,其中,所述基体材料至少具 有含有有机材料的表面。

8.权利要求7的光催化剂涂布物,其中,将光催化剂层直接涂布于 基体材料上。

9.权利要求1或2的光催化剂涂布物,其中,将光催化剂涂布物用 作外部材料。

10.用于生产权利要求1或2的光催化剂涂布物的光催化剂涂布液, 其在溶剂中包含:

1质量份以上、小于20质量份的光催化剂粒子;

70质量份以上、小于99质量份的无机氧化物粒子;和

以二氧化硅计,0质量份以上、小于10质量份的可水解性硅酮,

前提条件是光催化剂粒子、无机氧化物粒子和可水解性硅酮的总量 为100质量份,

其中,无机氧化物具有10nm以上、小于40nm的个数平均粒径, 该粒径如下计算:随机挑选位于通过扫描电子显微镜放大200,000倍的 视野中的100个粒子,测量其长度,

其中所述无机氧化物粒子选自二氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化铈、 氧化钇、氧化硼、氧化镁、氧化钙、氧化铁、无定型氧化钛、氧化铪、 钛酸钡和硅酸钙,

其进一步包含0质量份以上、小于10质量份的表面活性剂。

11.权利要求10的光催化剂涂布液,其实质上不含可水解性硅酮。

12.权利要求10或11的光催化剂涂布液,其包含5-15质量份的光 催化剂粒子。

13.权利要求10或11的光催化剂涂布液,其中,光催化剂粒子为 氧化钛粒子。

14.权利要求10或11的光催化剂涂布液,其中,无机氧化物粒子 为二氧化硅粒子。

15.权利要求10或11的光催化剂涂布液,其中,将光催化剂涂布 液用于在至少具有含有有机材料的表面的基体材料上涂布涂层。

16.权利要求15的光催化剂涂布液,其中,将光催化剂涂布液直接 涂布于所述基体材料上。

17.权利要求10或11的光催化剂涂布液,其中,将光催化剂涂布 液用于涂布外部材料。

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