[发明专利]具有低介电损耗的高频构件无效

专利信息
申请号: 200880017541.8 申请日: 2008-04-25
公开(公告)号: CN101755363A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: P·伯默尔;M·舒伯特 申请(专利权)人: 斯宾纳有限公司
主分类号: H01P1/213 分类号: H01P1/213;H01P3/08;H01B11/18
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 曾立
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 具有 低介电 损耗 高频 构件
【权利要求书】:

1.具有一内部导体结构(2)的高频构件,所述内部导体结构(2)借助至少一个绝缘元件(4,5)与一外部导体电绝缘,其中所述绝缘元件(4,5)机械地支撑所述内部导体结构(2),其特征在于,

所述绝缘元件(4,5)由一被成形为一三维结构并且通过烧结以所述三维结构固化的、电绝缘材料的薄膜(10)形成,所述薄膜(10)具有一壁厚度,所述壁厚度小于所述绝缘元件(4,5)的一通过所述三维结构形成的厚度。

2.根据权利要求1所述的高频构件,其特征在于,所述三维结构的壁厚度在50μm和500μm之间。

3.根据权利要求1或2所述的高频构件,其特征在于,所述绝缘元件(4,5)由一被成形为所述三维结构的PTFE薄膜(10)形成。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述三维结构被如此形成,使得在一由所述绝缘元件(4,5)占据的体积中所述电绝缘材料的体积份额小于等于25%、优选小于等于10%。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述外部导体通过一壳体(3)形成或者被集成在一壳体(3)中,在所述壳体中设置了所述内部导体结构(2)和所述绝缘元件(4,5)。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述三维结构具有一锯齿形形状或者一波浪形形状。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述三维结构在至少一个方向上交替地形成凸起和凹入。

8.根据权利要求6或7任一项所述的高频构件,其特征在于,所述三维结构被径向对称地构造。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述内部导体结构(2)以一夹层结构方式嵌入到两个绝缘元件(4,5)之间。

10.根据权利要求9所述的高频构件,其特征在于,所述两个绝缘元件(4,5)具有相同的三维结构并且被互相扭转一角度、优选90°地设置。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述高频构件被构造为多路复用器,尤其是被构造为双工器。

12.根据权利要求1至10中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述高频构件被构造为高频滤波器。

13.根据权利要求1至10中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述高频构件被构造为高频耦合器。

14.根据权利要求1至10中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述高频构件被构造为高频分离器。

15.用于根据权利要求1至14中任一项所述的高频构件的绝缘元件,所述绝缘元件(4,5)由一被成形为一三维结构并且通过烧结以所述三维结构固化的PTFE薄膜(10)形成,所述PTFE薄膜(10)具有一壁厚度,所述壁厚度小于所述绝缘元件(4,5)的一通过所述三维结构形成的厚度。

16.根据权利要求15所述的绝缘元件,其中,所述三维结构的壁厚在50μm和500μm之间。

17.根据权利要求15或16所述的绝缘元件,其中,在一由所述绝缘元件(4,5)占据的体积中所述PTFE薄膜(10)的体积份额小于等于25%、优选小于等于10%。

18.根据权利要求15至17中任一项所述的绝缘元件,其中,所述三维结构形成一锯齿形形状或者一波浪形形状。

19.根据权利要求15至17中任一项所述的绝缘元件,其中,所述三维结构在至少一个方向上交替地形成凸起和凹入。

20.根据权利要求18或19所述的绝缘元件,其特征在于,所述三维结构被径向对称地构造。

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