[发明专利]具有低介电损耗的高频构件无效
| 申请号: | 200880017541.8 | 申请日: | 2008-04-25 |
| 公开(公告)号: | CN101755363A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
| 发明(设计)人: | P·伯默尔;M·舒伯特 | 申请(专利权)人: | 斯宾纳有限公司 |
| 主分类号: | H01P1/213 | 分类号: | H01P1/213;H01P3/08;H01B11/18 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 曾立 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 低介电 损耗 高频 构件 | ||
1.具有一内部导体结构(2)的高频构件,所述内部导体结构(2)借助至少一个绝缘元件(4,5)与一外部导体电绝缘,其中所述绝缘元件(4,5)机械地支撑所述内部导体结构(2),其特征在于,
所述绝缘元件(4,5)由一被成形为一三维结构并且通过烧结以所述三维结构固化的、电绝缘材料的薄膜(10)形成,所述薄膜(10)具有一壁厚度,所述壁厚度小于所述绝缘元件(4,5)的一通过所述三维结构形成的厚度。
2.根据权利要求1所述的高频构件,其特征在于,所述三维结构的壁厚度在50μm和500μm之间。
3.根据权利要求1或2所述的高频构件,其特征在于,所述绝缘元件(4,5)由一被成形为所述三维结构的PTFE薄膜(10)形成。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述三维结构被如此形成,使得在一由所述绝缘元件(4,5)占据的体积中所述电绝缘材料的体积份额小于等于25%、优选小于等于10%。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述外部导体通过一壳体(3)形成或者被集成在一壳体(3)中,在所述壳体中设置了所述内部导体结构(2)和所述绝缘元件(4,5)。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述三维结构具有一锯齿形形状或者一波浪形形状。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述三维结构在至少一个方向上交替地形成凸起和凹入。
8.根据权利要求6或7任一项所述的高频构件,其特征在于,所述三维结构被径向对称地构造。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述内部导体结构(2)以一夹层结构方式嵌入到两个绝缘元件(4,5)之间。
10.根据权利要求9所述的高频构件,其特征在于,所述两个绝缘元件(4,5)具有相同的三维结构并且被互相扭转一角度、优选90°地设置。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述高频构件被构造为多路复用器,尤其是被构造为双工器。
12.根据权利要求1至10中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述高频构件被构造为高频滤波器。
13.根据权利要求1至10中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述高频构件被构造为高频耦合器。
14.根据权利要求1至10中任一项所述的高频构件,其特征在于,所述高频构件被构造为高频分离器。
15.用于根据权利要求1至14中任一项所述的高频构件的绝缘元件,所述绝缘元件(4,5)由一被成形为一三维结构并且通过烧结以所述三维结构固化的PTFE薄膜(10)形成,所述PTFE薄膜(10)具有一壁厚度,所述壁厚度小于所述绝缘元件(4,5)的一通过所述三维结构形成的厚度。
16.根据权利要求15所述的绝缘元件,其中,所述三维结构的壁厚在50μm和500μm之间。
17.根据权利要求15或16所述的绝缘元件,其中,在一由所述绝缘元件(4,5)占据的体积中所述PTFE薄膜(10)的体积份额小于等于25%、优选小于等于10%。
18.根据权利要求15至17中任一项所述的绝缘元件,其中,所述三维结构形成一锯齿形形状或者一波浪形形状。
19.根据权利要求15至17中任一项所述的绝缘元件,其中,所述三维结构在至少一个方向上交替地形成凸起和凹入。
20.根据权利要求18或19所述的绝缘元件,其特征在于,所述三维结构被径向对称地构造。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于斯宾纳有限公司,未经斯宾纳有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880017541.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





