[发明专利]全息光学器件、具有该全息光学器件的兼容性光学拾取器、采用该兼容性光学拾取器的光学信息存储介质系统无效

专利信息
申请号: 200880015949.1 申请日: 2008-01-22
公开(公告)号: CN101681644A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 裴在喆;金泰敬;朴景台 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G11B7/135 分类号: G11B7/135
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 刘奕晴;郭鸿禧
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 全息 光学 器件 具有 兼容性 拾取 采用 信息 存储 介质 系统
【权利要求书】:

1、一种全息光学器件,包括:

全息图,包括以4阶阶梯形状为周期的图案,其中,4阶阶梯形状的第一、第二、第三、第四阶梯中的至少一个的宽度与至少一个其它阶梯的宽度不同。

2、如权利要求1所述的全息光学器件,其中,第一和第四阶梯的宽度相等,第二和第三阶梯的宽度相等并且不同于第一和第四阶梯的宽度。

3、如权利要求2所述的全息光学器件,其中:

所述全息图被形成为使得由第一和第二阶梯之间的阶梯差确定的相位变化等于由第二和第三阶梯之间的阶梯差确定的相位变化,并且等于由第三和第四阶梯之间的阶梯差确定的相位变化。

4、如权利要求1所述的全息光学器件,其中,所述全息图被形成为使得第一和第四阶梯的宽度彼此相等,等于或大于0.16T并且小于0.25T,第二和第三阶梯的宽度彼此相等,均等于0.5T-第一阶梯的宽度,其中T为所述图案的周期的宽度。

5、如权利要求4所述的全息光学器件,其中,所述全息图被形成为使得由第一和第二阶梯之间的阶梯差确定的相位变化等于由第二和第三阶梯之间的阶梯差确定的相位变化,并且等于由第三和第四阶梯之间的阶梯差确定的相位变化。

6、如权利要求1所述的全息光学器件,其中,所述全息图被形成为使得由第一和第二阶梯之间的阶梯差确定的相位变化等于由第二和第三阶梯之间的阶梯差确定的相位变化,并且等于由第三和第四阶梯之间的阶梯差确定的相位变化。

7、如权利要求1所述的全息光学器件,还包括:

第一区域,所述全息图形成在第一区域中;

第二区域,在所述第二区域中,阶梯形状的全息图形成在第一区域的外侧,使得该阶梯形状的全息图中的阶梯的方向与第一区域中形成的全息图的阶梯的方向对称。

8、一种兼容性光学拾取器,所述兼容性光学拾取器使用第一标准的第一光学信息存储介质以及第二标准的第二光学信息存储介质,第二光学信息存储介质的厚度不同于第一光学信息存储介质的厚度,所述兼容性光学拾取器包括:

光源,用于发射预定波长的光束;

物镜,用于将入射光束聚焦到光学信息存储介质上;

全息光学器件,用于将从光源入射的光束衍射为第0级和第1级衍射光束,

其中,所述全息光学器件包括全息图,所述全息图具有以4阶阶梯形状为周期的图案,所述4阶阶梯形状的第一、第二、第三、第四阶梯中的至少一个形成为宽度不同于至少一个其它阶梯的宽度。

9、如权利要求8所述的兼容性光学拾取器,其中,第一和第四阶梯的宽度相等,第二和第三阶梯的宽度相等,并且不同于第一和第四阶梯的宽度。

10、如权利要求8所述的兼容性光学拾取器,其中,所述全息图被形成为使得第一和第四阶梯的宽度彼此相等,等于或大于0.16T并小于0.25T,第二和第三阶梯的宽度彼此相等,分别等于0.5T-第一阶梯的宽度,其中,T为所述图案的所述周期的宽度。

11、如权利要求10所述的兼容性光学拾取器,其中,所述全息图被形成为使得由第一和第二阶梯之间的阶梯差确定的相位变化等于由第二和第三阶梯之间的阶梯差确定的相位变化,并且等于由第三和第四阶梯之间的阶梯差确定的相位变化。

12、如权利要求8所述的兼容性光学拾取器,其中,所述全息图被形成为使得由第一和第二阶梯之间的阶梯差确定的相位变化等于由第二和第三阶梯之间的阶梯差确定的相位变化,并且等于由第三和第四阶梯之间的阶梯差确定的相位变化。

13、如权利要求8所述的兼容性光学拾取器,其中,所述全息光学器件包括全息图中形成的第一区域,用于将第1级衍射光束发散。

14、如权利要求13所述的兼容性光学拾取器,其中,所述全息光学器件还包括第二区域,所述第二区域包括形成于第一区域外侧的全息图,用于将入射光束衍射为第0级衍射光束和会聚的第1级衍射光束。

15、如权利要求14所述的兼容性光学拾取器,其中,阶梯形状的全息图形成在第二区域中,使得所述阶梯形状的全息图中的阶梯的方向与第一区域中形成的全息图的阶梯的方向对称。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880015949.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top