[发明专利]具有真空灭弧室的开关装置有效
申请号: | 200880014633.0 | 申请日: | 2008-04-30 |
公开(公告)号: | CN101675491A | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | D·根奇 | 申请(专利权)人: | ABB技术股份公司 |
主分类号: | H01H33/66 | 分类号: | H01H33/66;H01H9/40 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 董华林 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 真空 灭弧室 开关 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种具有真空灭弧室的开关装置。
背景技术
通常已知对每个分离行程(断路间隔)具有驱动或驱动可能性的 真空灭弧室。因此接触件处于真空灭弧室内,其中一个接触件固定地 安装在真空灭弧室内,其中一个接触件可运动地设置在输入导体上。 设置在真空灭弧室中的接触件的运动通过输入导体和波纹管实现。另 外在开关装置的要求的免复燃性(Neuzündungsfreiheit)的情况下按 有利的方式两个触点间隙(Schaltstrecke)(在此为两个真空灭弧室) 串联。
已知的通常的真空灭弧室配备有一个触点间隙,并且基本上被标 准化。
如果按负载电路或功率电路需要具有提高的介电强度的真空灭弧 室,那么在灭弧室内需要非常大的间距,这当然也对于在接触件之间 的距离(分离行程)有效。
如果要求开关装置的免复燃性,那么一方面两个触点间隙串联。 但是两个真空灭弧室必须分开地驱动。这可以通过两个开关装置或一 个具有杠杆系统(传动机构)的开关装置实现。
如果例如选择两个真空灭弧室,那么用于整个单元的技术耗费是 大的并且与高成本有关。另一限制是相比较大的体积,该体积当时对 于双真空灭弧室结构是必需的。如果开关装置要求用于负荷开关的领 域或用于电容开关,那么可靠的切断是必要的(少量的复燃)。
发明内容
因此本发明的目的在于,明显提高断流容量和介电强度。
该目的通过本发明的开关装置解决。
本发明实现一种开关装置,其具有真空灭弧室,在真空灭弧室内 设置两个串联的、具有总共两个能打开的接触平面的接触结构,所述 两个接触结构通过三个在真空灭弧室内设置的接触件构成,其中至少 两个接触件是可运动的,所述三个接触件中的第一接触件通过驱动装 置直接强迫地驱动,而所述三个接触件中的第二接触件通过弹簧力间 接驱动并且沿至少一个操作方向跟随第一接触件进行同步运动或跟踪 运动。
在此本发明的核心是在真空灭弧室内实现结构上的串联接触结 构,使得在一个真空灭弧室内设置两个串联的具有总共两个可打开的 接触平面的接触结构。在此两个串联接触结构设置在正好一个真空灭 弧室内。因此尤其在介电强度方向明显提高开关性能。
在其它有利的结构中给出,两个接触结构通过一个共同的驱动装 置加载。
同样有利的是,两个接触结构通过三个接触件构成。
在其他有利的结构中给出,所述三个接触件中的第一接触件通过 驱动装置直接强迫地进行驱动,而所述三个接触件中的第二接触件通 过弹簧力间接驱动并且在至少一个操作方向上跟随第一接触件进行同 步或跟踪运动。
在其他尤其有利的结构中给出,同步或跟踪运动的第二接触件是 无电势的。从而鉴于可靠的灭弧提供大的改善。
在其他有利的结构中给出,同步或跟踪运动的第二接触件由杯形 结构包围。
另外设计,杯形结构与第二接触件一体地或至少固定地连接。
一种结构是尤其有利的,即杯形结构设有开口,第二接触件设置 得穿过该开口,该第二接触件在两面具有有效的接触面。
另外有利的是,具有相对于铜较低的导电性的材料用于输入导体。
在此所述两个输入导体中的至少一个由铜制成。
在一种特别的结构中给出,在外部的真空灭弧室的内部还有另一 内部的灭弧室,该内部的灭弧室这样设置在其内,使得两个得到的接 触结构在触点间隙中串联。
对于各接触件不同的材料组合是有利的。例如至少一个接触件由 铜铬合金构成。
一种特别的彼此协调的材料组合是,接触结构之一或这一个接触 结构的各接触面由钨铜合金或由碳化钨一银合金构成,而另一接触结 构的各接触件由铜铬合金构成。
附图说明
在附图中的实施例中描述并且下面详细说明本发明。其中:
图1显示第一实施形式的负荷开关。
图2显示第二实施形式的负荷开关。
具体实施方式
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