[发明专利]移动体装置

说明书

技术领域

本发明是关于一种移动体装置、图案形成装置、曝光装置、以及元件制 造方法，更详言之，是关于具备实质沿既定平面移动的移动体的移动体装置、 将图案形成于装载于移动体的物体上的图案形成装置、通过照射能量束于物 体形成图案的曝光装置、以及使用所述曝光装置的元件制造方法。

背景技术

以往，在制造半导体元件、液晶显示元件等电子元件(微型元件)的微影制 程中，主要使用步进重复方式的投影曝光装置(所谓步进器)、步进扫描方式的 投影曝光装置(所谓扫描步进器(亦称扫描器))等。

然而，晶片或玻璃板等被曝光基板(以下总称为晶片)的表面，例如会因晶 片的起伏等而未必为平坦。因此，特别是扫描器等的扫描型曝光装置，当以 扫描曝光方式将标线片图案转印于晶片上的某照射区域时，使用多焦点位置 检测系统(以下亦称为“多点AF系统”)等检测设定于曝光区域内的复数个检 测点中晶片表面在投影光学系统的光轴方向的位置信息(聚焦信息)，并根据该 检测结果，控制保持晶片的平台或载台在光轴方向的位置及倾斜、亦即聚焦 调平控制，以使晶片表面在曝光区域内随时一致于投影光学系统的像面(成为 像面的焦深范围内)(参照例如美国专利第5,448,332号说明书)。

又，步进器或扫描器等，伴随着集成电路的微细化所使用的曝光用光的 波长亦逐年变短，又，投影光学系统的数值孔径亦逐渐增大(大NA化)，藉此 谋求提升解析度。另一方面，通过曝光用光的短波长化及投影光学系统的大 NA化能使焦深变得非常狭窄，因此恐有曝光动作时的聚焦裕度不足之虞。因 此，作为实质缩短曝光波长且使焦深与在空气中相较实质变大(变宽)的方法， 有一种利用液浸法的曝光装置最近受到瞩目(参照美国专利申请公开第2005 ／259234号说明书)。

然而，此种利用液浸法的曝光装置、或其他的投影光学系统下端面与晶 片之间的距离(工作距离)狭窄的曝光装置，难以将上述多点AF系统配置于投 影光学系统附近。另一方面，曝光装置被要求高精度且稳定地进行上述聚焦 调平控制，以实现高精度的曝光。

发明内容

根据本发明的第1态样，提供一种第1移动体装置，包含实质沿既定平 面移动的移动体，其特征在于，具备：反射面，配置于该移动体与该移动体 外部中的一方，以与该既定平面平行的面内的第1方向为长边方向，且于与 该第1方向正交的第2方向具有既定宽度；以及测量装置，在配置于该反射 面上的复数个测量点测量该移动体在与该既定平面正交的第3方向的位置信 息；该复数个测量点的配置，设定成该复数个测量点中的n点(n为2以上的 整数)以上位于该标尺上的该既定宽度内，且在该移动体位于既定位置时该复 数个测量点中的n＋1点以上位于该反射面上的该既定宽度内。

根据上述，测量装置所具有的复数个测量点中的n点(n为2以上的整数) 以上位于反射面上的既定宽度内，且在移动体位于既定位置时n＋1点以上位 于反射面上的既定宽度内。因此，至少可在一个测量点，测量移动体在与既 定平面正交的第3方向的位置信息。因此，即使位于反射面上的既定宽度内 的n点以上、在移动体位于既定位置时在n＋1点以上的测量点一部分的测量 产生异常，亦可在剩余的测量点确实地测量移动体在第3方向的位置信息。

根据本发明的第2态样，提供一种第2移动体装置，包含实质沿既定平 面移动的移动体，其特征在于，具备：反射面，配置于该移动体与该移动体 外部中的一方，以与该既定平面平行的面内的第1方向为长边方向，且于与 该第1方向正交的第2方向具有既定宽度；测量装置，在配置于该反射面上 的复数个测量点测量该反射面在与该既定平面正交的第3方向的位置信息； 该测量装置，具有复数个包含对第1测量点照射测量光的第1读头、以及对 该第1测量点或其附近照射测量光的第2读头的读头组。

根据上述，测量装置，具有复数个包含对复数个测量点中的第1测量点 照射测量光的第1读头、以及对第1测量点或其附近照射测量光的第2读头 的读头组。因此，即使当读头组所含的第1读头与第2读头中的一读头产生 异常，由于能使用另一读头，因此读头组可稳定地对反射面照射测量光，测 量移动体在与既定平面正交的第3方向的位置信息。因此，通过使用具有复 数个读头组的测量装置，即能确实地测量移动体在第3方向的位置信息。