[发明专利]在其上具有一个或多个高分子电解质层的纤维制品以及制备该纤维制品的方法无效
| 申请号: | 200880013354.2 | 申请日: | 2008-04-18 |
| 公开(公告)号: | CN101668498A | 公开(公告)日: | 2010-03-10 |
| 发明(设计)人: | 弗朗西斯·E·波尔贝尼;莫塞斯·M·大卫;马修·T·肖尔茨;普拉巴卡拉·S·拉奥 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
| 主分类号: | A61F13/00 | 分类号: | A61F13/00;B32B5/00;D04H1/00 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 郇春艳;樊卫民 |
| 地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 一个 高分子 电解质 纤维制品 以及 制备 方法 | ||
1.一种制品,包括:
纤维基底,所述纤维基底包括沿着所述纤维基底的第一主表 面和第二主表面的纤维;
纤维表面处理体,所述纤维表面处理体在沿着所述第一主表 面的所述纤维的至少一部分上,所述纤维表面处理体包括:(i)氧等离 子处理体,或(ii)类金刚石玻璃膜涂层,或既包括氧等离子处理体又包 括类金刚石玻璃膜涂层;以及
阴离子高分子电解质层,所述阴离子高分子电解质层粘合至 所述纤维表面处理体。
2.根据权利要求1所述的制品,其中所述纤维表面处理体包括类 金刚石玻璃膜。
3.根据权利要求2所述的制品,其中所述第一类金刚石玻璃膜包 含致密无规的共价体系,所述致密无规的共价体系在不含氢的基础上 包含至少约30原子%的碳、至少约25原子%的硅、以及小于或等于约 45原子%的氧。
4.根据权利要求3所述的制品,其中所述纤维表面处理体还包括 所述氧等离子处理体。
5.根据权利要求1所述的制品,其中所述纤维表面处理体包括所 述氧等离子处理体。
6.根据权利要求1所述的制品,其中所述阴离子高分子电解质层 通过在所述纤维表面处理体上的硅烷偶联层被粘合至所述纤维表面处 理体。
7.根据权利要求1所述的制品,还包括:
阳离子高分子电解质层,所述阳离子高分子电解质层在所述 阴离子高分子电解质层上。
8.根据权利要求1所述的制品,其中所述阴离子高分子电解质层 包含聚(苯乙烯磺酸)钠盐。
9.根据权利要求7所述的制品,其中所述阳离子高分子电解质层 包含聚(烯丙胺盐酸盐)或聚(六亚甲基双胍)(PHMB)。
10.根据权利要求1所述的制品,其中所述制品包括交替的阴离 子高分子电解质层和阳离子高分子电解质层。
11.根据权利要求1所述的制品,其中所述制品包括阳离子高分 子电解质最外层。
12.根据权利要求1所述的制品,还包括:
第二纤维表面处理体,所述第二纤维表面处理体在沿着所述 第二主表面的所述纤维的至少一部分上,所述第二纤维表面处理体包 括:(i)氧等离子处理体,或(ii)类金刚石玻璃膜涂层,或既包括氧等离 子处理体又包括类金刚石玻璃膜涂层;
第二硅烷层,所述第二硅烷层沉积在所述第二纤维表面处理 体上;和
阴离子高分子电解质层、或阴离子高分子电解质层和阳离子 高分子电解质层两者,所述阴离子高分子电解质层、或阴离子高分子 电解质层和阳离子高分子电解质层两者在所述第二硅烷层上。
13.根据权利要求12所述的制品,其中沿着所述第一主表面的所 述纤维用第一化学性质的层涂布,以及沿着所述第二主表面的所述纤 维用第二化学性质的层涂布,其中所述第一化学性质不同于所述第二 化学性质。
14.根据权利要求1所述的制品,其中所述纤维基底为非织造网。
15.根据权利要求1所述的制品,还包括至少一种活性成分,所 述活性成分包括含银化合物、含铜化合物、含碘化合物、或它们的组 合。
16.一种包括根据权利要求15所述的制品的伤口敷料。
17.一种制品,包括:
纤维基底,所述纤维基底包括沿着所述纤维基底的第一主表 面和第二主表面的纤维;
类金刚石玻璃膜,所述类金刚石玻璃膜涂布沿着所述第一主 表面、所述第二主表面、或两者的所述纤维的至少一部分;
硅烷偶联层,所述硅烷偶联层在所述第一类金刚石玻璃膜上; 和
阴离子高分子电解质层,所述阴离子高分子电解质层在所述 硅烷偶联层上。
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