[发明专利]含氟化合物的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及含氟化合物的制造方法。进一步详细地说，本发明涉及效 率高地制造作为六氟-1，3-丁二烯的合成原料等有用的含氟化合物、特别是 1，2，3，4-四氯六氟丁烷的方法，六氟-1，3-丁二烯作为例如用于半导体的蚀刻 气体等被人们所关注。

背景技术

1，2，3，4-四氯六氟丁烷是作为六氟-1，3-丁二烯的合成原料等的重要化合 物，六氟-1，3-丁二烯作为例如用于半导体微细加工的蚀刻气体被人们所关 注。

该1，2，3，4-四氯六氟丁烷的制造方法，现在已知以下方法。

(1)特开2006-342059号公报(专利文献1)中记载了通过使 CClX¹X²-CClX³-CClX⁴-CClX⁵X⁶(X是氢原子或氟原子)所表示的卤化物在 液相中与氟气接触来制造1，2，3，4-四氯六氟丁烷的方法。

该方法使用了反应溶剂。专利文献1记载了使用全氟烷烃类、全氟醚 类、全氟聚醚类、氯化氟化烃类以及全氟烷基胺类作为该反应溶剂。

然而如果这样使用溶剂，就必须从反应溶剂中分离反应生成物，被分 离的反应溶剂能从生成物中分离回收、再利用，但是不可否认的是这种反 应溶剂的分离操作烦杂。再者，如果使用1，2，3，4-四氯六氟丁烷作为反应溶 剂，有不需分离反应溶剂和生成物的优点，但是，在该反应中，用反应溶 剂稀释了反应原料，在低浓度下实施氟化反应，因此在工业上有效制造目 标物方面留在课题。

在这种现有的方法中，因为使用反应溶剂作为必须成分，所以存在分 离该反应溶剂的操作非常烦杂的问题。

专利文献1：特开2006-342059号公报

发明内容

本发明的目的在于解决上述现有技术中的问题，提供一种效率高地制 造1，2，3，4-四氯六氟丁烷等含氟化合物的方法，该含氟化合物可用于例如作 为半导体用蚀刻气体等被关注的六氟-1，3-丁二烯的合成原料等。

本发明者们，为解决上述课题认真研究后的结果，发现了通过使卤代 烃化合物在无溶剂、无催化剂的条件下与氟气在液相或固液共存状态下反 应，收率高、价格低并且经济地制造含氟化合物的方法，从而完成了本发 明。

即本发明是以下的[1]～[10]。

一种含氟化合物的制造方法，其特征在于，在无溶剂、且无催化 剂的条件下，使卤代烃化合物以液相或固液共存状态与氟气反应。

根据[1]所述的含氟化合物的制造方法，其特征在于，上述卤代烃 化合物是碳原子数3～6个的烃化合物的与碳原子直接键合的多个氢原子 被卤素原子取代而成的化合物。

根据[1]所述的含氟化合物的制造方法，其特征在于，上述卤代烃 化合物是1，2，3，4-四氯丁烷，含氟化合物是1，2，3，4-四氯六氟丁烷。

根据[1]所述的含氟化合物的制造方法，其特征在于，上述反应的 反应温度是在-10～70℃的范围内。

根据[1]所述的含氟化合物的制造方法，其特征在于，上述反应的 反应压力是在0.1～2.0MPa的范围内。

根据[3]所述的含氟化合物的制造方法，其特征在于，上述1，2，3，4- 四氯丁烷主要是通过3，4-二氯-1-丁烯的氯化反应得到的。

根据[6]所述的含氟化合物的制造方法，其特征在于，上述通过3，4- 二氯-1-丁烯的氯化反应得到的1，2，3，4-四氯丁烷中含有40质量％以上的作 为光学异构体的外消旋体。

根据[1]所述的含氟化合物的制造方法，其特征在于，将上述氟气 用稀释气体稀释后导入反应装置。

根据[8]所述的含氟化合物的制造方法，其特征在于，上述稀释过 的氟气中氟气浓度为30容量％以上。

根据[8]或[9]所述的含氟化合物的制造方法，其特征在于，上述稀 释气体为选自氮气、氦气、氩气和氖气中的至少一种惰性气体。

本发明能提供一种在工业上收率好、安全的并且经济上有利的、效率 高的制造1，2，3，4-四氯六氟丁烷之类含氟化合物的方法，该方法通过使例如 1，2，3，4-四氯丁烷之类卤代烃化合物在无溶剂、且无催化剂的条件下，在液 相或固液共存状态下与氟气接触，抑制了C-C键裂解导致的低沸成分生成， 能防止过度氟化进行。

具体实施方式