[发明专利]粘合的磨料物品和制造方法无效

专利信息
申请号: 200880012624.8 申请日: 2008-03-13
公开(公告)号: CN101678534A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: G·奎尔;P·S·丹多;C·少默;R·W·霍尔 申请(专利权)人: 圣戈班磨料磨具有限公司;法国圣戈班磨料磨具公司
主分类号: B24D3/18 分类号: B24D3/18;B24D18/00
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 代理人: 徐 舒;姜 华
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 粘合 磨料 物品 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种粘合的磨料,包括:

在一种粘合基质中的磨料颗粒,这些磨料颗粒包括立方氮化硼(cBN)并且该粘合基质包括一个多晶陶瓷相,该粘合的磨料进一步包括不小于约5.0vol%的孔隙率以及不小于约40MPa的断裂模量(MOR)。

2.如权利要求1所述的粘合的磨料,其中这些磨料颗粒包括不小于该粘合的磨料物品的总体积的大约25vol%。

3.如权利要求1所述的粘合的磨料,其中该粘合基质包括不大于该粘合的磨料的总体积的大约60vol%。

4.如权利要求1所述的粘合的磨料,其中该粘合基质包括氧化硅。

5.如权利要求4所述的粘合的磨料,其中该粘合基质包括不小于约20mol%的氧化硅。

6.如权利要求4所述的粘合的磨料,其中该粘合基质包括氧化铝。

7.如权利要求6所述的粘合的磨料,其中该粘合基质包括不大于约60mol%的氧化铝。

8.如权利要求6所述的粘合的磨料,其中该粘合基质进一步包括至少一种选自下组的成分,该组成分的构成为:氧化锂、氧化镁、氧化钙、氧化钡、氧化钠、氧化钾、氧化硼、氧化锆、氧化钛、氧化锌、氧化钇、氧化铁、氧化铯、氧化镧、以及氧化铋。

9.如权利要求6所述的粘合的磨料,其中该粘合基质包括氧化锂。

10.如权利要求6所述的粘合的磨料,其中该粘合基质包括氧化镁。

11.如权利要求10所述的粘合的磨料,其中粘合基质包括不大于约45mol%的氧化镁。

12.如权利要求11所述的粘合的磨料,其中该粘合基质包括的氧化硅的量是在大约40mol%与大约60mol%之间,氧化铝的量是在大约10mol%与大约30mol%之间的范围内,并且氧化镁的量是在大约15mol%与大约35mol%之间的范围内。

13.如权利要求1所述的粘合的磨料,其中该粘合基质包括不小于约50vol%的该多晶陶瓷相。

14.如权利要求13所述的粘合的磨料,其中该粘合基质包括在大约60vol%与大约100vol%之间的该多晶陶瓷相。

15.如权利要求1所述的粘合的磨料,其中该粘合基质进一步包括一个非晶相。

16.如权利要求15所述的粘合的磨料,其中该非晶相包括不大于该粘合基质的总体积的大约50vol%。

17.如权利要求1所述的粘合的磨料,其中该多晶陶瓷相包括至少一个选自下组的晶相,该组的构成为:堇青石、顽辉石、假蓝宝石、钙长石、钡长石、透辉石、尖晶石、以及β-锂辉石。

18.如权利要求1所述的粘合的磨料,其中多晶陶瓷包括具有不小于约0.05微米的平均微晶大小的微晶粒。

19.如权利要求18所述的粘合的磨料,其中该平均微晶大小是不小于约1.0微米。

20.如权利要求18所述的粘合的磨料,其中该平均微晶大小是在大约1.0微米与大约100微米之间的范围内。

21.如权利要求1所述的粘合的磨料,其中该孔隙率是不小于该粘合的磨料的总体积的大约10vol%。

22.如权利要求21所述的粘合的磨料,其中该孔隙率是在该粘合的磨料的总体积的大约20vol%与大约50vol%之间的范围内。

23.如权利要求1所述的粘合的磨料,其中该孔隙率具有不大于约500微米的平均孔径大小。

24.如权利要求1所述的粘合的磨料,其中该MOR是不小于约50MPa。

25.如权利要求24所述的粘合的磨料,其中该MOR是不小于约60MPa。

26.如权利要求1所述的粘合的磨料,其中该MOR是在大约40Mpa与大约150MPa之间的范围内。

27.如权利要求1所述的粘合的磨料,其中该粘合基质具有不大于约70×10-7/K-1的平均热膨胀系数(CTE)。

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