[发明专利]具有减小的触发电压的堆叠式静电放电保护电路有效

专利信息
申请号: 200880012325.4 申请日: 2008-04-14
公开(公告)号: CN101657900A 公开(公告)日: 2010-02-24
发明(设计)人: 尤金·沃利 申请(专利权)人: 高通股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H02H9/04
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 刘国伟
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 减小 触发 电压 堆叠 静电 放电 保护 电路
【权利要求书】:

1.一种堆叠式静电放电保护电路,其包含:

第一电压供应节点;

第一NFET,其具有漏极、栅极、源极和主体,其中所述主体耦合到所述源极,其 中所述第一NFET的所述漏极耦合到所述第一电压供应节点;

第一电阻器,其具有第一引线和第二引线,其中所述第一电阻器的所述第一引线 耦合到所述第一NFET的所述栅极,且其中所述第一电阻器的所述第二引线耦合到所 述第一NFET的所述源极;

第二NFET,其具有漏极、栅极、源极和主体,其中所述主体耦合到所述源极,且 所述第二NFET的所述漏极连接到所述第一NFET的所述源极;

第二电阻器,其具有第一引线和第二引线,其中所述第二电阻器的所述第一引线 耦合到所述第二NFET的所述栅极,且其中所述第二电阻器的所述第二引线耦合到所 述第二NFET的所述源极;以及

第一电容结构,其具有第一引线和第二引线,其中所述第一电容结构取自由以下 各项组成的群组:二极管、金属-绝缘体-金属电容器(MIMCAP)、场绝缘体电容 器、栅极-绝缘体-半导体电容器,其中所述第一电容结构的所述第一引线耦合到所 述第一电压供应节点,其中所述第一电容结构经耦合以供应在ESD事件期间流经所 述第二电阻器的电流。

2.根据权利要求1所述的电路,其中所述第一电容结构的所述第二引线耦合到所述第二 电阻器的所述第一引线。

3.根据权利要求1所述的电路,其进一步包含:

第二电压供应节点,其中在所述ESD事件期间,电流在从所述第一电压供应节点、 穿过所述第一NFET、穿过所述第二NFET并到达所述第二电压供应节点的电流路径 中流动。

4.根据权利要求3所述的电路,其进一步包含:

第三NFET,其具有漏极、栅极、源极和主体,其中所述主体耦合到所述源极; 第三电阻器,其具有第一引线和第二引线,其中所述第三电阻器的所述第一引线 耦合到所述第三NFET的所述栅极,且其中所述第三电阻器的所述第二引线耦合到所 述第三NFET的所述源极;以及

第二电容结构,其具有第一引线和第二引线,其中所述第二电容结构取自由以下 各项组成的群组:二极管、金属-绝缘体-金属电容器(MIMCAP)、场绝缘体电容 器、栅极-绝缘体-半导体电容器,其中所述第二电容结构的所述第一引线耦合到所 述第一电压供应节点,其中所述第二电容结构的所述第二引线耦合到所述第三电阻 器的所述第一引线。

5.根据权利要求1所述的电路,其进一步包含:

第一N阱;

第一P阱,其延伸到所述第一N阱中,其中所述第一NFET的所述主体是所述第一P 阱的一部分;

第二N阱;以及

第二P阱,其延伸到所述第二N阱中,其中所述第二NFET的所述主体是所述第二P 阱的一部分。

6.根据权利要求5所述的电路,其中所述第一N阱耦合到所述第一NFET的所述源极, 且其中所述第二N阱耦合到所述第二NFET的所述源极。

7.根据权利要求5所述的电路,其中所述第一N阱耦合到所述第一NFET的所述漏极, 且其中所述第二N阱耦合到所述第二NFET的所述漏极。

8.根据权利要求5所述的电路,其中所述第一N阱耦合到所述第一电压供应节点,且其 中所述第二N阱耦合到所述第一N阱。

9.根据权利要求1所述的电路,其进一步包含:

共用N阱;

第一P阱,其延伸到所述共用N阱中,其中所述第一NFET的所述主体是所述第一P 阱的一部分;以及

第二P阱,其延伸到所述共用N阱中,其中所述第二NFET的所述主体是所述第二P 阱的一部分。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高通股份有限公司,未经高通股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880012325.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top