[发明专利]真空处理装置、真空处理装置的运行方法和存储介质

权利要求书

1.一种真空处理装置，其特征在于，包括：

处理容器，其具有基板的搬送口，保持真空气氛并利用处理气体对基板进行处理；

保持真空气氛的搬送室，该搬送室通过闸室与该处理容器的所述搬送口连接，并包括通过所述搬送口对所述处理容器进行基板的交接的搬送机构；

闸阀，其设置于所述闸室，用于当在所述处理容器内进行基板的处理时关闭所述搬送口，当对处理容器进行基板的交接时打开该搬送口；和

闸室惰性气体供给部和闸室排气口，它们分别设置于所述闸室，使得至少在所述搬送口打开期间，在面对该搬送口的位置形成惰性气体的气流，以抑制处理容器内的残留气体向所述搬送室扩散。

2.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于：

在所述闸室内的闸阀关闭时，停止来自所述闸室惰性气体供给部的惰性气体的供给。

3.如权利要求1或2所述的真空处理装置，其特征在于：

在搬送室中，设置有用于在该搬送室内形成惰性气体的气流的搬送室惰性气体供给部和搬送室排气口。

4.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于：

当所述闸室内的闸阀关闭时，该闸室的闸室排气口被关闭。

5.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于：

闸阀以配合搬送口的开闭而开闭闸室的闸室排气口的方式构成。

6.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于：

闸阀在与闸室排气口重叠的位置具有开口部，使得当打开搬送口处于停止状态时，闸室的闸室排气口处于打开的状态。

7.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于：

具备多个处理容器，

各处理容器通过各个闸室多个地与共同的搬送室连接。

8.一种真空处理装置的运行方法，该真空处理装置包括：具有基板的搬送口的处理容器和保持真空气氛的搬送室，该搬送室通过闸室与所述搬送口连接并包括通过所述搬送口对所述处理容器进行基板的交接的搬送机构，该真空处理装置的运行方法的特征在于，包括：

在通过设置于所述闸室的闸阀关闭所述搬送口的状态下，在所述处理容器内在真空气氛下利用处理气体对基板进行处理的工序；和

通过所述闸阀打开所述搬送口，利用所述搬送机构从处理容器搬出基板的工序，

至少在所述搬送口打开的期间，通过分别设置在所述闸室的闸室惰性气体供给部和闸室排气口，在面对该搬送口的位置形成惰性气体的气流，以抑制处理容器内的残留气体向所述搬送室扩散。

9.如权利要求8所述的真空处理装置的运行方法，其特征在于：

当所述闸室内的闸阀关闭时，停止来自所述闸室惰性气体供给部的惰性气体的供给。

10.如权利要求8所述的真空处理装置的运行方法，其特征在于：

包括通过设置在搬送室的搬送室惰性气体供给部和搬送室排气口，在该搬送室内形成惰性气体的气流的工序。

11.如权利要求8所述的真空处理装置的运行方法，其特征在于：

当所述闸室内的闸阀关闭时，该闸室的闸室排气口被关闭。