[发明专利]光学片以及使用该光学片的光源无效
| 申请号： | 200880010444.6 | 申请日： | 2008-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN101652680A | 公开（公告）日： | 2010-02-17 |
| 发明（设计）人： | 岛崎俊胜;手岛照雄;田谷昌人;佐藤诚 | 申请（专利权）人： | 日立化成工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;F21V8/00;G02B3/06;G02B5/02;G02B5/04;G02F1/1335;G02F1/13357;F21Y103/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 雒纯丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 以及 使用 光源 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学片，其特征在于，在基材正面形成有棱镜结构、透镜结构、双凸透镜结构中的至少一种结构，在基材背面形成具有周期性排列的形状，基材背面形状的周期性与基材正面的周期性是大致相同的周期。
2.根据权利要求1记载的光学片，其中，所述基材正面形状和基材背面形状的周期性为40～50μm。
3.根据权利要求2记载的光学片，其中，所述基材正面形状和基材背面形状的周期性为44～48μm。
4.一种光学片，其特征在于，在基材正面形成有棱镜结构、透镜结构、双凸透镜结构中的至少一种结构，在基材背面形成具有周期性排列的形状，基材背面形状的周期性为20μm以下。
5.根据权利要求4记载的光学片，其中，所述基材正面形状的周期性为40～50μm。
6.根据权利要求5记载的光学片，其中，所述基材正面形状的周期性为44～48μm。
7.配置有权利要求1～6的任一项记载的光学片和导光体的光源。
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