[发明专利]水晶振子片及其制造方法无效
申请号: | 200880009904.3 | 申请日: | 2008-03-26 |
公开(公告)号: | CN101657965A | 公开(公告)日: | 2010-02-24 |
发明(设计)人: | 加藤晶子;森谷卓 | 申请(专利权)人: | 西铁城控股株式会社 |
主分类号: | H03H9/215 | 分类号: | H03H9/215;G01C19/56;G01P9/04;H01L41/09;H01L41/18;H01L41/22;H03H3/02;H03H9/19;H01L21/306 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 何腾云 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水晶 振子片 及其 制造 方法 | ||
1.一种水晶振子片的制造方法,所述水晶振子片包括具有第一侧 面和第二侧面的振动腿,其特征在于,具有:
在水晶片的表面上形成第一蚀刻掩模,并在所述水晶片的背面上 形成第二蚀刻掩模;
通过用蚀刻溶液进行浸渍,将未被所述第一蚀刻掩模和所述第二 蚀刻掩模覆盖的部分的水晶溶解,从而形成所述振动腿的步骤,
在所述第二蚀刻掩模中,从与所述第一蚀刻掩模的第一端部对应 的位置突出的第一突出部的长度被设定成,使形成在所述第一侧面侧 的第一残渣固定不变,而跟所述第一蚀刻掩模与所述第二蚀刻掩模的 错位无关,
所述第一和第二蚀刻掩模,对形成在所述第二侧面侧的第二残渣 进行调整,从而使穿过与所述振动腿的纵向正交的截面的图心的两个 主轴中的一方,被形成为与所述水晶片的表面或背面大致平行。
2.如权利要求1所述的水晶振子片的制造方法,其特征在于,当 所述第一蚀刻掩模的宽度形成得比所述第二蚀刻掩模的宽度小、所述 水晶片的厚度为t、所述第一侧面侧的蚀刻角度为α时,以在所述第 一侧面侧,使所述第一突出部的长度b满足
b>t×tanα
的关系的方式,把所述第一蚀刻掩模和所述第二蚀刻掩模形成在所述 水晶片上。
3.如权利要求2所述的水晶振子片的制造方法,其特征在于,当 所述第一蚀刻掩模与所述第二蚀刻掩模的位置对齐精度为p、且所述 第二蚀刻掩模的第一侧面侧的掩膜偏置量为k时,以使所述第一突出 部的长度b满足
b=t×tanα+k
k>p
的关系的方式,把所述第一蚀刻掩模和所述第二蚀刻掩模形成在所述 水晶片上。
4.如权利要求1~3中的任一项所述的水晶振子片的制造方法, 其特征在于,当所述第一蚀刻掩模的宽度形成得比所述第二蚀刻掩模 的宽度小、所述水晶片的厚度为t、所述第一侧面侧的蚀刻角度为α 时,以在所述第二侧面侧,使所述第二蚀刻掩模中的从与所述第一蚀 刻掩模的第二端部对应的位置突出的第二突出部的长度c满足
c<t×tanα
的关系的方式,把所述第一蚀刻掩模和所述第二蚀刻掩模形成在所述 水晶片上。
5.如权利要求4所述的水晶振子片的制造方法,其特征在于,当 所述第一蚀刻掩模的宽度形成得比所述第二蚀刻掩模的宽度小、所述 水晶片的厚度为t、所述第二侧面侧的蚀刻角度为α时,以在所述第 二侧面侧,使所述第二蚀刻掩模中的从与所述第一蚀刻掩模的第二端 部对应的位置突出的第二突出部的长度c满足
c=0.7×t×tanα
的关系的方式,把所述第一蚀刻掩模和所述第二蚀刻掩模形成在所述 水晶片上。
6.一种水晶振子片,所述水晶振子片从水晶片的表背两面通过蚀 刻进行加工,其特征在于,具有:
被形成为宽度相互不同而且大致平行的表面和背面,
具有形成在所述表面和所述背面之间的第一侧面和第二侧面的振 动腿,
配置在所述第一侧面侧、在一个斜面固定不变地形成的第一残渣,
和配置在所述第二侧面侧的第二残渣,
所述第二残渣被调整成,使穿过与所述振动腿的纵向正交的截面 的图心的两个主轴中的一方,被形成为与所述表面或所述背面大致平 行。
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