[发明专利]用于烃处理设备的改进的防污剂有效
申请号: | 200880009427.0 | 申请日: | 2008-03-26 |
公开(公告)号: | CN101646699A | 公开(公告)日: | 2010-02-10 |
发明(设计)人: | 艾伦·R·希里奈克 | 申请(专利权)人: | 纳尔科公司 |
主分类号: | C08F255/10 | 分类号: | C08F255/10;C07C17/386 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 武晶晶;郑 霞 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 处理 设备 改进 防污 | ||
技术领域
本发明涉及被单不饱和二羧酸衍生物取代的某些烯烃聚合物、包含这些聚合物的制剂以及这些聚合物用于防止烃处理设备尤其是二氯乙烷蒸馏单元结垢的用途。
发明背景
在处理石油烃类和诸如石油中间产品以及石油化学产品和石油化学中间产品如气体、油和重整原料的原料、氯化烃和烯烃车间流体时,通常将烃加热到50℃到600℃的温度。烃流体暴露于这些高温可以导致在烃处理设备上形成结垢的沉积物。在许多处理中,沉积物减少了导管和容器的内径并防碍了处理通过量、损害热传递并阻塞过滤网、阀和捕集器。在热交换系统的情形中,沉积物在可利用的表面上形成绝缘层,从而限制热传递并因为要清洁而必须经常停机。而且,这些沉积物降低了通过量,这当然会导致容量损失,且对成品的产量产生显著的影响。因此,这些沉积物已经在业内引起了相当大的关注。
例如,在生产氯乙烯单体(VCM)中,乙烯、氧和HCl在氧氯化单元中进行反应,或者乙烯和氯在直接氯化单元中进行反应以产生二氯乙烷(EDC),随后在裂解单元将二氯乙烷处理以形成VCM。工厂通常包括从裂解单元中回收残余EDC的循环设施和用于纯化来自循环的、氧氯化的和直接氯化的EDC的纯化设施。
严重的结垢发生在处理液态EDC的各种单元中。例如,在初级EDC回收单元中,结垢发生在蒸馏塔板和转移设施中,尤其是再沸器中。结垢在初级EDC回收单元、重馏分塔和真空蒸馏塔内的液相EDC中是特别严重的。仅仅在运行数月之后就因结垢而要求工厂停机并不罕见。
结垢被认为是由于EDC流内不相容的高度氯化和/或氧化的聚合物材料引起的。
专利第5,110,997号公开了一种使用酰化胺、油溶性的烷基芳族磺酸镁(magnesium alkyl aromatic sulfonate)、及其组合来防止用于制造二氯乙烷的设备结垢的方法,酰化胺是通过使被C4-C10单不饱和二羧酸衍生物取代的C2-C10单烯烃聚合物和碱性胺反应来制备的。
发明概述
在一个实施方案中,本发明是一种在处理烃流体的过程中防止与所述烃流体接触的烃处理设备结垢的方法,该方法包括向所述流体中添加有效防污量的一种或多种取代的烯烃聚合物,该烯烃聚合物是通过使一种或多种具有约150到约5,000的数均分子量的C2-C10烯烃聚合物与一种或多种C4-C10单不饱和二羧酸衍生物反应来制备的。
在一个实施方案中,本发明是一种包括一种或多种有机溶剂和约5重量百分比到约80重量百分比的一种或多种取代的烯烃聚合物的组合物,该烯烃聚合物是通过使一种或多种具有约150到约5,000的数均分子量的C2-C10单烯烃聚合物与一种或多种C4-C10单不饱和二羧酸衍生物反应来制备的。
在一个方面,本发明提供了一种在处理烃流体的过程中防止与所述烃流体接触的烃处理设备结垢的方法,所述方法包括向所述烃流体中添加有效防污量的一种或多种取代的烯烃聚合物,所述烯烃聚合物是通过使一种或多种具有150到5,000的数均分子量的C2-C10烯烃聚合物与一种或多种C4-C10单不饱和二羧酸衍生物反应来制备的。
在本发明的方法中,所述烃处理设备可以选自由二氯乙烷蒸馏单元组成的组。
在本发明的方法中,可将所述取代的烯烃聚合物添加到至所述蒸馏单 元的进料中。
在本发明的方法中,所述C2-C10烯烃聚合物可以与至少一摩尔当量的所述单不饱和二羧酸衍生物反应。
在本发明的方法中,所述C2-C10烯烃聚合物可包括C2-C5单烯烃。
在本发明的方法中,所述C2-C10烯烃聚合物可以是聚异丁烯
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳尔科公司,未经纳尔科公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880009427.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种热管能量回收型全新风空气处理机组
- 下一篇:直冷式空调器