[发明专利]3,3’-二胺基-5,5’-二苯基-4,4’-联苯二醇及其原料、以及聚苯并恶唑

说明书

技术领域

本发明是有关于一种用于制造包括聚酰亚胺、感光性聚酰亚胺、聚苯并恶唑、感光性聚苯并恶唑、聚羟基酰胺、聚羟基酰亚胺以及聚酰胺在内的高性能聚合物的单体3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇以及其原料。本发明还关于使3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇反应而得到的聚苯并恶唑。

背景技术

双邻胺基苯酚是制造高耐热性及高强度且电特性良好的聚合物例如聚苯并恶唑以及含有羟基的聚酰亚胺(聚羟基酰亚胺)或它们的前体所必需的化合物。聚苯并恶唑以及聚羟基酰亚胺特别是作为半导体的表面保护膜、层间绝缘膜、多层配线基板的相关绝缘膜、可挠性配线基板的硬镀层等是重要的。近年来，具有光阻功能的感光性聚苯并恶唑或聚酰亚胺特别受关注。聚苯并恶唑通常如下制造：由二羧酸二氯化物和双邻胺基苯酚得到聚羟基酰胺，然后对其进行加热处理使脱水闭环而制得。聚羟基酰亚胺通常是由四羧酸酐和双邻胺基苯酚得到聚酰胺酸，然后对其进行加热处理使脱水闭环而制得。双邻胺基苯酚对由其制造的聚合物的性质产生很大的影响。即，聚合物的耐热性、机械特性、电特性或溶解性等受原料双邻胺基苯酚的影响大。用于上述用途的双邻胺基苯酚的具体例子已知有：2，2-双(3-胺基-4-羟苯基)丙烷、2，2-双(3-胺基-4-羟苯基)六氟丙烷、双(3-胺基-4-羟苯基)砜(参照日本专利特开2007-15967号公报)、3，3’-二胺基-4，4’-联苯二醇(参照日本专利特开平11-106367号公报)、3，3’-二胺基-5，5’-二甲基-4，4’-联苯二醇(参 照日本专利特开平11-106367号公报)、3，3’-二胺基-5，5’-二苯基乙炔基-4，4’-联苯二醇(参照日本专利特开2005-97230号公报)等。 

发明内容

因此，本发明之目的在于提供一种用于制造可适应半导体领域越发先进的高密度化、面安装化或高频传递的、具有耐热性、低膨胀性、低介电常数、高折射等优异的物理特性的聚合物的单体双邻胺基苯酚。 

为了解决上述问题，本发明人等进行了深入研究，结果发现：3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇可用作满足上述半导体领域中的高度性能要求的聚合物的单体，并发现了以高纯度、高收率制造3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇的方法，从而完成了本发明。 

即，本发明之要旨构成如下。 

1.3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇。 

2.3，3’-二硝基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇。 

3.聚苯并恶唑，其包括下述式(1)所表示的重复单元。 

(式中，R为二价的二羧酸残基)。 

4.如上述3所记载的聚苯并恶唑，其中：是使3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇与二羧酸或其衍生物进行缩聚反应而得到。 

本发明的3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇可用作高性能聚合物的单体、特别是满足半导体领域中的高度性能要求的聚合物的单体。 

具体实施方式

<3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇> 

以下，详细说明本发明。本发明的3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇，例如可如下得到：将3，3’-二苯基-4，4’-联苯二醇硝基化得到3，3’-二硝基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇，再将该3，3’-二硝基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇还原而得到。应说明的是，原料3，3’-二苯基-4，4’-联苯二醇以能够容易地从市场上获取的邻苯基苯酚为原料，可以容易地利用常规方法来制造。 

如上所述，本发明的3，3’-二硝基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇是存在于3，3’-二胺基-5，5’-二苯基-4，4’-联苯二醇之前的物质，例如将3，3’-二苯基-4，4’-联苯二醇硝基化可得到。上述硝基化反应通常是对3，3’-二苯基-4，4’-联苯二醇进行硝酸处理而进行。