[发明专利]涂布装置、涂布体的制造方法及流体喷出装置有效
申请号: | 200880006435.X | 申请日: | 2008-02-27 |
公开(公告)号: | CN101622076A | 公开(公告)日: | 2010-01-06 |
发明(设计)人: | 佐藤强;近藤弘康;樱井直明;山边纯成;添田胜之;小泉洋;木村修一;木下静雄 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;佳能株式会社 |
主分类号: | B05C9/14 | 分类号: | B05C9/14;B05C5/00;B05D1/26;B05D3/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 史雁鸣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 涂布体 制造 方法 流体 喷出 | ||
技术领域
本发明涉及涂布装置、涂布体的制造方法及流体喷出装置,特别是,涉及向涂布对象物喷射液滴的装置、附着该液滴的溶质的涂布体的制造方法以及喷出流体的装置。
背景技术
涂布装置除用于图像信息的印刷之外,还用于在制造液晶显示装置、有机EL(Electro Luminescence:电致发光)显示装置、电子发射显示装置、等离子态显示装置及电泳显示装置等各种平面型显示装置时的涂膜工艺。
涂布装置配备有将墨水等溶液形成液滴、向涂布对象物喷射的液滴喷射头(例如,喷墨头);以及使落到涂布对象物上的液滴干燥的干燥部等。这种涂布装置利用液滴喷射头使多个液滴落到涂布对象物上,形成规定图案的点列,使涂布对象物上的各个液滴干燥,形成液体物质形成的涂膜,用于各种物品(涂布体)的制造。
对于涂布装置,提出了在这种涂膜的形成工艺中,在使液滴干燥时,通过减压干燥使各个液滴高速干燥的涂布装置(例如,参照特开2001-235277号公报及特开2003-234273号公报)。这种涂布装置,除涂布装置本体部之外,还包括容纳涂布后的涂布对象物的真空室等容纳室、以及排出该容纳室内的气体以便将容纳室内减压的排气部等。
但是,当通过自然干燥或减压干燥等干燥使液滴干燥时,由于在容纳室内产生的气流等的影响,邻接基板的涂布面的气氛的溶剂浓度产生不均匀分布,在该涂布面内各个液滴干燥时的行为发生波动。因此,在各个液滴干燥之后,在整个涂布的面上一处处地单独观察时,由残留在涂布对象物上的各种溶质物产生的涂膜的膜厚分布(厚度方向的截面形状)是不一致的。即,各种溶质物的厚度方向的截面形状, 在涂布面内的每个区域上是不同的。这是造成物品的品质不稳定的主要原因。
发明内容
本发明是为了解决上述课题而做出的,其目的是提供一种形成的涂膜的状态在平面内可以均匀化的涂布装置、涂布体的制造方法及流体喷出装置。
根据本发明的实施形式的第一个特征是,在涂布装置中包括:液滴喷射部,所述液滴喷射部向涂布对象物喷射第一溶液的液滴,将液滴涂布到涂布对象物上;重新润湿(复润)干燥部,所述重新润湿(复润)干燥部,对涂布到涂布对象物上的第一溶液的残留物赋予能够溶解残留物的溶剂,形成作为溶质包含有残留物的第二溶液的涂着体,并且,使所形成的第二溶液的涂着体干燥。
根据本发明的实施形式的第二个特征是,在涂布体的制造方法中包括:向涂布对象物喷射第一溶液的液滴、在涂布对象物上涂布液滴的工序,对涂布到涂布对象物上的第一溶液的残留物赋予能够溶解残留物的溶剂、形成作为溶质包含有残留物的第二溶液的涂着体的工序,以及使所形成的第二溶液的涂着体干燥的工序。
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