[发明专利]轮廓振子和轮廓振子的调节方法无效
| 申请号： | 200880006195.3 | 申请日： | 2008-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN101622785A | 公开（公告）日： | 2010-01-06 |
| 发明（设计）人： | 山田明法 | 申请（专利权）人： | 爱普生拓优科梦株式会社 |
| 主分类号： | H03H3/04 | 分类号： | H03H3/04;H03H9/19 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 轮廓 调节 方法 | ||
1.一种轮廓振子，其包括：
振动体，其由石英晶体制成的在平面图中为正方形的平板形成；
激励电极，其形成在所述振动体的正面和背面上并调节谐振频率；以及
温度特性调节膜，其形成在所述激励电极的至少一个表面上并调节温度特性。
2.根据权利要求1所述的轮廓振子，其中，所述温度特性调节膜的谐振频率Fr约等于所述振动体的谐振频率Fb。
3.根据权利要求2所述的轮廓振子，其中，所述温度特性调节膜的谐振频率Fr约等于所述振动体的谐振频率Fb，并且所述振动体的谐振频率Fb约等于所述激励电极的谐振频率Fe。
4.根据权利要求1所述的轮廓振子，其中，所述温度特性调节膜的谐振频率Fr约等于所述轮廓振子的期望谐振频率F0。
5.根据权利要求1～4中任何一项所述的轮廓振子，其中，在所述温度特性调节膜和所述振动体之间形成有中间层。
6.一种轮廓振子调节方法，该方法包括：
形成由石英晶体制成的在平面图中为正方形的平板形成的振动体的工序；
在所述振动体的正面和背面形成激励电极的工序；
通过改变所述激励电极的厚度和面积中的至少其中之一来调节谐振频率的工序；以及
通过在所述激励电极的至少一个表面上形成温度特性调节膜来调节温度特性的工序。
7.根据权利要求6所述的轮廓振子调节方法，其中，所述温度特性调节膜的谐振频率Fr约等于所述振动体的谐振频率Fb。
8.根据权利要求7所述的轮廓振子调节方法，其中，所述温度特性调节膜的谐振频率Fr约等于所述振动体的谐振频率Fb，并且所述振动体的谐振频率Fb约等于所述激励电极的谐振频率Fe。
9.根据权利要求6～8中任何一项所述的轮廓振子调节方法，其中，在所述温度特性调节膜和所述振动体之间形成中间层。
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