[发明专利]用于光致抗蚀剂的抗反射涂料组合物的溶剂混合物

权利要求书

1.抗反射涂料组合物，其中该抗反射涂料组合物包含聚合物交 联剂和溶剂混合物，其中该溶剂混合物包含至少一种主要有机溶剂和 至少一种辅助有机溶剂，其中辅助有机溶剂选自结构1、2和3的任一 种

其中R₁、R₃和R₄独立地选自H和C₁-C₆烷基，并且R₂、R₅、R₆、R₇、 R₈和R₉独立地选自C₁-C₆烷基和n＝1-5，

并且其中所述聚合物交联剂衍生自至少一种甘脲单体，且所述聚 合物交联剂可溶于所述溶剂混合物。

2.根据权利要求1的组合物，其中辅助有机溶剂的浓度少于溶剂 混合物的25wt％。

3.根据权利要求1的组合物，其中辅助有机溶剂占总溶剂混合物 的1-10重量％。

4.根据权利要求1或2的组合物，其中该抗反射涂料组合物在加 速老化之后具有小于100/ml的0.2微米的液体颗粒数。

5.根据权利要求1的组合物，其进一步包含酸产生剂。

6.根据权利要求5的组合物，其中所述酸产生剂是热酸产生剂和 /或光酸产生剂。

7.根据权利要求1的组合物，其中聚合物交联剂吸收用于使光致 抗蚀剂曝光的辐射。

8.根据权利要求1的组合物，其进一步包含聚合物或聚合物混合 物。

9.根据权利要求8的组合物，其中该聚合物包含至少一个选自以 下的结构部分：酚基、与(甲基)丙烯酸酯单体单元相连的羟基、与乙 烯基醚单体单元相连的羟基、与单体单元相连的羧酸基团或氨基。

10.根据权利要求9的组合物，其中所述聚合物选自羟基苯乙烯 共聚物和聚酯。

11.根据权利要求1的组合物，其中甘脲单体包含结构4的结构 部分：

12.根据权利要求1的组合物，其中聚合物交联剂是甘脲单体和 包含至少一个羟基或酸基的化合物的反应产物。

13.根据权利要求1的组合物，其中主要有机溶剂包括至少一种 选自PGMEA、PGME、EEP、乳酸乙酯和其混合物的溶剂。

14.形成图像的方法，包括：

a)用权利要求1-10任一项的涂料组合物涂覆基材并且烘焙；

b)将光致抗蚀剂薄膜涂覆在抗反射涂料的顶上并且烘焙；

c)将光致抗蚀剂成像式曝光；

d)将光致抗蚀剂中的图像显影；

e)任选地，在曝光步骤之后将基材烘焙。

15.权利要求14的方法，其中光致抗蚀剂包含聚合物和光活性化 合物。