[发明专利]有机涂膜剥离用组合物及剥离有机涂膜的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种有机涂膜剥离用组合物，且特别涉及用于剥离液晶显示器和半导体器件中作为保护膜或绝缘膜的有机涂膜的组合物及使用该组合物的剥离方法。

背景技术

蚀刻过程可以说是整个液晶显示器和半导体产业的平版印刷工艺(lithographic process)中最重要的步骤之一。一般而言，光致抗蚀剂掩模上的组件图案先通过平版印刷工艺转移到光致抗蚀剂上，然后再利用蚀刻过程来完成整个图案转移到薄膜的最终目的。这层经过平版印刷和蚀刻的薄膜将成为液晶显示器或半导体组件的一部份。

举例来说，在制造液晶显示器的常见方法中，通常于包括金属电极的玻璃基板上形成聚酰亚胺(PI)前体的有机涂膜，然后在此有机涂膜上形成图案化光致抗蚀剂掩模，再对曝光的有机涂膜进行蚀刻，接着在玻璃基板上采用光致抗蚀剂剥离液，以清除光致抗蚀剂掩模，从而形成蚀刻的聚酰亚胺前体。然后，进行聚酰亚胺前体的加热处理，以制得聚酰亚胺涂膜。聚酰亚胺是用途极广的耐高温塑料，可用作绝缘涂料，也可防止基板上的金属层氧化。

当以此平版印刷工艺制造的组件存在缺陷时，如半导体封装过程中铝导线上的保护膜太薄或太厚，或是导电线太窄或太宽时，可将该保护膜去除，以便重新形成保护膜，使得包括金属电极的玻璃基板可以继续回收再利用。

从玻璃基板上剥离蚀刻的有机涂膜的常规方法利用诸如加热的氢氧化钠水溶液或肼水溶液的危险性碱液。虽然使用碱液可完全剥离有机涂膜，但是必须充分控制剥离时间。此外，某些玻璃基板会因碱液而溶出，造成金属层腐蚀。

发明内容

为了消除上述缺点，本发明的主要目的在于提供一种有机涂膜剥离用组合物，其可以安全、有效地从玻璃基板上去除有机涂膜，并且不会对金属基板表面造成损伤。

本发明的又一目的在于提供一种剥离有机涂膜的方法，其包括将包括有机涂膜的金属基板与本发明的有机涂膜剥离用组合物接触以自该基板去除有机涂膜，并且不会对金属基板表面造成损伤。

附图说明

图1显示在基板上的蚀刻的聚酰亚胺。

图2显示图1的聚酰亚胺以常规组合物去除后的状态。

图3显示图1的聚酰亚胺以本发明实施例1的组合物去除后的状态。

具体实施方式

本发明的有机涂膜剥离用组合物以组合物总重量计包含约5重量％至约90重量％的极性溶剂、约0.01重量％至约50重量％的碱性化合物及约100ppm至约15重量％的金属腐蚀抑制剂。

可通过本发明有机涂膜剥离用组合物有效剥离的有机涂膜包括但不限于聚酰亚胺涂膜，由丙烯酸树脂、酚醛清漆树脂、环氧树脂或聚乙烯醇树脂形成的涂膜，优选为聚酰亚胺涂膜。

本发明所使用的极性溶剂是与有机涂膜具有优异的亲和性的溶剂，优选为非质子性水性有机溶剂，包括但不限于二醇类化合物、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、N，N-二甲基乙酰胺(DMAC)、N，N-二甲基甲酰胺(DMF)、二甲亚砜(DMSO)或其混合物。

适用于本发明中作为极性溶剂的二醇类化合物优选是卡必醇及其衍生物，包括但不限于二甘醇单丁醚(BDG)、二甘醇单乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、二甘醇二丁醚、二甘醇醋酸酯单丁醚或其混合物。

本发明所使用的极性溶剂的含量以组合物总重量计为约5重量％至约90重量％，优选为约20重量％至约85重量％。

本发明所使用的碱性化合物优选选自由氨基醇化合物、季铵化合物及其混合物所组成的群。

适用于本发明中作为碱性化合物的氨基醇化合物优选选自由单乙醇胺(MEA)、N-甲基乙醇胺、N，N-二甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N-甲基-N-乙基乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺及其混合物所组成的群。

适用于本发明中作为碱性化合物的季铵化合物优选选自由氢氧化三甲基苯铵、苄基三甲基氢氧化铵、氢氧化胆碱、四甲基氢氧化铵(TMAH)、四丙基氢氧化铵及其混合物所组成的群。

本发明所使用的碱性化合物的含量以组合物总重量计为约0.01重量％至约50重量％，优选为约0.1重量％至约50重量％。

本发明所使用的金属腐蚀抑制剂优选选自由苯并三唑衍生物、糖醇类衍生物、有机酚类化合物及其混合物所组成的群。

适用于本发明中作为金属腐蚀抑制剂的糖醇类衍生物优选选自由麦芽糖醇、聚糊精(polydextrose)、木糖醇、乳糖醇、甘露醇、麦芽糖醇糖浆、异麦芽糖醇(isomaltitol)、山梨醇及其混合物所组成的群。

适用于本发明中作为金属腐蚀抑制剂的有机酚类化合物优选是儿茶酚。