[发明专利]Ⅲ族元素氮化物晶体的制造方法及Ⅲ族元素氮化物晶体有效
申请号: | 200880001092.8 | 申请日: | 2008-03-05 |
公开(公告)号: | CN101558188A | 公开(公告)日: | 2009-10-14 |
发明(设计)人: | 山田修;峯本尚;平中弘一;畑山健;佐佐木孝友;森勇介;川村史朗;北冈康夫 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | C30B29/38 | 分类号: | C30B29/38;C30B19/02;H01L33/00;H01S5/323 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 元素 氮化物 晶体 制造 方法 | ||
1.III族元素氮化物晶体的制造方法,其是如下的制造方法:将III 族元素、碱金属以及III族元素氮化物的晶种加入到晶体生长容器中,在 含氮气体气氛下,对所述晶体生长容器加压加热,在含有所述III族元素、 所述碱金属以及氮的熔液中使所述III族元素和所述氮反应,以所述晶种 作为核使III族元素氮化物晶体生长,其中,
在对所述晶体生长容器加压加热之前,添加沸点高于所述碱金属的熔 点的烃。
2.根据权利要求1所述的制造方法,其中,
将所述碱金属用烃覆盖,将进行了所述覆盖的所述碱金属添加到所述 晶体生长容器中。
3.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,
还调整所述晶体生长容器中的所述烃的量。
4.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,
添加到所述晶体生长容器中的所述烃在常温下呈固体或液体的状态。
5.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,
所述烃的沸点为150℃以上。
6.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,
所述烃是选自链式饱和烃、链式不饱和烃、脂环式烃以及芳香族烃中 的至少一种化合物。
7.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,
相对于所述碱金属100质量份,所述烃的添加量为0.03质量份以上。
8.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,
所述晶种为III族元素氮化物单晶时,相对于所述碱金属100质量份, 所述烃的添加量为1质量份以下。
9.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,
当所述晶种为形成于基板上的III族元素氮化物的薄膜时,相对于所 述碱金属100质量份,所述烃的添加量为0.6质量份以下。
10.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,
所述III族元素为选自Al、Ga以及In中的至少一种元素,
所述III族元素氮化物为AlsGatIn(1-s-t)N表示的化合物,式中0≤s≤1、 0≤t≤1、s+t≤1。
11.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,
所述III族元素为Ga,
所述III族元素氮化物为GaN,
所述碱金属包含Na。
12.根据权利要求11所述的制造方法,其中,
所述烃的沸点高于Na的熔点。
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