[发明专利]光学薄膜、及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及使用于液晶显示装置的光学补偿等的光学薄膜、及包含该光学薄膜的光学层叠体、及其制造方法。进而，本发明涉及使用了这些光学薄膜及/或光学层叠体的偏振板、及液晶显示装置、有机EL显示装置、PDP等图像显示装置。

背景技术

以往以来，以液晶显示装置的光学补偿等为目的，使用具有双折射的聚合物材料。作为这样的光学补偿材料，例如，广泛使用拉伸塑料薄膜等而赋予双折射的材料。另外，近年来，开发了将芳香族聚酰亚胺或芳香族聚酯等高双折射显示性聚合物涂敷于基材上的光学补偿材料(例如，参照专利文献1、2)。

这样的芳香族聚合物具有耐热性或机械强度优越的特征，另一方面，具有缺乏相对于有机溶剂的溶解性的倾向。因此，以芳香族聚合物为主成分的光学薄膜通常通过将该聚合物溶解于极性高即溶解性高的溶剂中，形成为溶液后，将该溶液涂敷于金属鼓或金属带或基材薄膜等上，将其干燥而制膜。然而，在这样的制膜方法中，能够溶解该聚合物的溶剂的选项受到限制，因此，有时干燥条件受到限制，或需要高价的设备。另外，要求使用于涂敷的基材不溶解于溶剂，因此，能够使用的基材受到限制。从这样的观点来说，寻求可溶于甲苯等极性低的溶剂中，且具备可作为光学补偿材料发挥功能的双折射显示性的聚合物的开发。

【专利文献1】WO94/24191国际公开手册

【专利文献2】日本特开2004—070329号公报

发明内容

本发明的目的在于提供含有溶解性高的芳香族聚合物的光学薄膜、及其制造方法。进而，本发明的目的在于提供使用了所述光学薄膜的光学层叠体、偏振板、及图像显示装置。

本申请发明人等经过专心致志的研究的结果，发现通过含有特定结构的聚酯的光学薄膜来能够解决所述问题的事实，完成了本发明。即，本发明涉及一种光学薄膜，其中，

含有：具有由下述通式(I)表示的重复单元的酯系聚合物，

【化1】

A及B分别表示取代基，a及b表示对应的A及B的取代数(0～4的整数)，

A及B分别独立表示氢、卤素、碳原子数1～6的烷基、或取代或未取代的芳基，

D表示选自由共价键、CH₂基、C(CH₃)₂基、C(CZ₃)₂基(在此，Z为卤素)、CO基、O原子、S原子、SO₂基、Si(CH₂CH₃)₂基、及N(CH₃)基构成的组的至少一种原子或基团，

R1及R2表示碳原子数1～10的直链或支链的烷基、取代或未取代的芳基，

R3～R6分别独立表示氢原子、卤素原子、碳原子数1～6的直链或支链的烷基、碳原子数5～10的环烷基、或取代或未取代的芳基(其中，R3～R6中至少一个为氢原子)，

p1表示0～3的整数，p2表示1～3的整数，

n表示2以上的整数。

在本发明的光学薄膜中，优选所述通式(I)中的R1为甲基，且R2为碳原子数2～4的直链或支链的烷基。

进而，在本发明的光学薄膜中，优选在所述通式(I)中，R3及R5为碳原子数1～4的直链或支链的烷基，且R4及R6为氢原子或碳原子数1～4的直链或支链的烷基。

进而，在本发明的光学薄膜中，优选所述酯系聚合物为在化学结构中不具有卤素原子的非卤化酯系聚合物。

进而，在本发明的光学薄膜中，优选所述酯系聚合物可溶于甲苯或醋酸乙酯。

进而，在本发明的光学薄膜中，优选波长在400nm下的透过率为90％以上。

进而，在本发明的光学薄膜中，优选厚度为20μm以下。

进而，在本发明的光学薄膜中，优选薄膜厚度方向的折射率(nz)比薄膜面内的折射率的最大值(nx)小。

进而，本发明涉及一种光学层叠体，其是所述的光学薄膜和聚合物基材密接层叠而成的。

进而，本发明涉及一种偏振板，其中，包含：所述的光学薄膜或所述光学层叠体、和偏振片。

进而，本发明涉及一种图像显示装置，其中，包含：所述的光学薄膜或所述光学层叠体、和偏振板的至少一个。

另外，本发明涉及一种光学薄膜的制造方法，其是所述的光学薄膜的制造方法，其中，包括：

配制含有由所述通式(I)表示的酯系聚合物、和溶剂的溶液的工序；及