[发明专利]电子束绘制方法无效

专利信息
申请号: 200880000661.7 申请日: 2008-06-24
公开(公告)号: CN101542610A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: 冲野刚史 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G11B5/84 分类号: G11B5/84;G03F7/20
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 杨晓光;于 静
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电子束 绘制 方法
【权利要求书】:

1.一种电子束绘制方法,包括:

提供电子束绘制装置,所述装置具有在其上放置衬底的台架、向水平方向移动所述台架的移动机构、以及旋转所述台架的旋转机构;

将其上涂布有光敏树脂膜的所述衬底放置到所述台架上,在所述台架上的所述衬底被旋转并向所述水平方向移动时向所述光敏树脂膜施加电子束,并绘制向径向延伸的图形,

其中,所述电子束向平行于所述衬底的旋转方向的方向偏移,使得从绘制所述图形的循环中的绘制开始位置观察,在所述衬底上的电子束施加位置沿平行于所述衬底的所述旋转方向的方向的相对移动速度变得低于所述衬底的线速度。

2.如权利要求1所述的方法,其中所述电子束向平行于所述衬底的所述旋转方向的所述方向偏移并还向所述径向偏移。

3.如权利要求1所述的方法,其中假定所述电子束的移动速度为V,所述衬底的线速度为L,则满足下面的关系:L/2≤V<L,其中所述电子束偏移使得所述衬底上的所述电子束施加位置向与所述衬底的所述旋转方向相同的方向移动。

4.如权利要求1所述的方法,其中所述电子束在不大于径向位置上的位长度的两倍的范围内向所述衬底的所述旋转方向的反方向偏移,其中所述位在开始被绘制时所述位出现在所述径向位置上。

5.如权利要求1所述的方法,其中所述光敏树脂膜是正光敏树脂膜。

6.如权利要求1所述的方法,其中,在绘制向圆周方向延伸的图形时,所述电子束在所述图形附近的循环中向所述径向偏移,使得所述图形被多重曝光。

7.如权利要求1所述的方法,其中形成前导图形。

8.如权利要求6所述的方法,其中形成离散轨道图形。

9.如权利要求1所述的方法,其中形成离散型磁盘的图形。

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