[发明专利]其上具有微图案的膜的制备方法及由该方法制备的膜

权利要求书

1.一种制备具有微图案的膜的方法，其包括：

在所述膜的一个表面上形成第一微图案；以及

采用在所述膜的一个表面上形成的第一微图案作为光掩膜，通过光刻法在所述膜的另一表面上形成第二微图案，其几何形状与第一微图案的几何形状相同。

2.权利要求1所述的方法，其中，用光刻法形成所述第一微图案。

3.权利要求1或2所述的方法，其中，在将光刻胶材料涂敷于膜上之后，通过曝光、显影、清洗和干燥进行所述光刻法。

4.权利要求3所述的方法，其中，当形成与第一微图案具有相同几何形状的第二微图案时，所使用的光刻胶材料包括正性光刻胶材料。

5.权利要求3所述的方法，其中，通过选自直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、刮刀涂布法、狭缝挤压式涂布法、狭缝涂布法、幕帘涂布法、毛细管涂布法、喷涂法、浸涂法、丝网印刷法和旋涂法中的一种方法将所述光刻胶材料涂敷于膜上。

6.权利要求3所述的方法，其进一步包括在所述曝光之前预烘焙涂敷的光刻胶材料或者在所述显影、清洗和干燥之后后烘焙剩下的微图案的步骤。

7.权利要求1所述的方法，其中，通过印刷法或化学镀法来形成所述第一微图案。

8.权利要求7所述的方法，其中，通过选自直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、胶印法、反向胶印法、喷墨法和丝网印刷法中的一种方法在所述膜上形成印刷的微图案。

9.权利要求7所述的方法，其中，在将光刻胶材料涂敷于膜上之后，通过曝光、显影、清洗和干燥进行光刻法。

10.权利要求9所述的方法，其进一步包括在所述曝光之前预烘焙涂敷的光刻胶材料或者在所述显影、清洗和干燥之后后烘焙剩下的微图案的步骤。

11.权利要求9所述的方法，其中，通过选自直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、刮刀涂布法、狭缝挤压式涂布法、狭缝涂布法、幕帘涂布法、毛细管涂布法、喷涂法、浸涂法、丝网印刷法和旋涂法中的一种方法将所述光刻胶材料涂敷于膜上。

12.一种制备具有微图案的膜的方法，其包括：

在所述膜的相对表面上涂敷光刻胶材料；以及

在所述膜上面设置光掩膜，对膜的相对表面进行曝光、显影、清洗和干燥，以及获得在其相对表面上具有微图案的膜。

13.权利要求12所述的方法，其中，通过选自直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、刮刀涂布法、狭缝挤压式涂布法、狭缝涂布法、幕帘涂布法、毛细管涂布法、喷涂法、浸涂法、丝网印刷法和旋涂法中的一种方法而将所述光刻胶材料涂敷于膜上。

14.权利要求12所述的方法，其进一步包括在所述曝光之前预烘焙涂敷的光刻胶材料或者在所述显影、清洗和干燥之后后烘焙剩下的微图案的步骤。

15.一种采用权利要求1或12所述的方法制备的具有微图案的膜，该膜在其前表面和后表面上包括多对相对应的微图案，在每对图案之中，相对应的微图案的宽度之间的差异在在膜的前表面上形成的图案的宽度的20％之内，并且在每对图案之中，每对相对应图案的中轴线之间的距离差异在在膜的前表面上形成的图案的宽度的10％之内。

16.权利要求15所述的膜，其中，所述膜在显示器件中用作改进对比度的膜、安全膜和用于触摸板的膜。