[实用新型]模具的清理模板结构无效
| 申请号: | 200820303420.7 | 申请日: | 2008-12-16 |
| 公开(公告)号: | CN201345355Y | 公开(公告)日: | 2009-11-11 |
| 发明(设计)人: | 张建成 | 申请(专利权)人: | 登高实业股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;B29C33/72 |
| 代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 | 代理人: | 何 为 |
| 地址: | 中国台湾台北*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 模具 清理 模板 结构 | ||
技术领域:
本实用新型涉及一种模具的清理模板结构,特别指一种应用在半导体封装模具中,用以配合清除模穴及模具面残胶的清理模板结构。
背景技术:
在集成电路封装的制程中,多是以环氧树脂等高分子材料,注入封胶模具的模穴内,待硬化后将芯片及承载器等集成电路组件形成一芯片封装体;然而,在经过多次封胶制程步骤后,该封胶模具的模穴内通常会残留胶体,为确保接续的封装制成品的质量及外观完整度,便需要针对该些残胶做适当的清除。
在已知清模的技术中,便有一种配合清模饼作为吸胶材料的清模方式,该清模饼10为异于封胶材料的三聚氰胺树脂等材料所构成,请参考图1的压饼式清模动作示意图,其中显示至少一适当大小的清模饼10置于上模具11及下模具12的模穴13之间,待上、下模11、12进行压模动作后,会将至少一清模饼10压塑进入模具的模穴13内,使整体形成一吸胶块14并吸附残存于模穴13表面的残胶,随着取下吸胶块后同时移除残胶,经重复数次上述动作,便可大致完成清模动作,由于程序简单技术难度不高,在生产业界已逐渐广为应用。
但,该已知利用清模饼清除残胶的方式仍有其缺点,乃因清模饼压塑后所形成的吸胶块,时有进入上、下模间的定位块15的情形,该情形会造成模具定位不良;此外,若模具设计上为仅上模具设有模穴的情形时,由于具模穴的模具牵制力大于不具模穴的模具(如下模具),加上模具所设的顶出杆16在清模饼压塑过程已先行顶出,因此,吸胶块14经常会附着在上模具11上,尚需配合手工具徒手将吸胶块14敲下,徒手施力不当的话,更容易造成吸胶块的碎裂,徒增清理上的困扰。有鉴于此,如何使清模饼在清模实务上能更方便业者使用,实值得相关业者加以探讨解决。
实用新型内容:
本实用新型所要解决的技术问题是:针对上述现有技术的不足,提供一种模具的清理模板结构,令吸胶块形成在该清理模板的范围内不致进入模具结构内,同时具有压回顶出杆总成的作用,以祈吸胶块成型后,于开模时可轻易退模。
为解决上述技术问题,本实用新型所采用的技术方案是:一种模具的清理模板结构,该清理模板设置于一上模具与一下模具间的模具面上,其特点是:该清理模板形成具有适当厚度的一框主体,该框主体相对于该模具的顶出杆的位置,该框主体局限出一压饼空间,该压饼空间涵盖该模具所设的模穴及模具面,并相对于该模具所造定位块的位置形成有开槽。
上述模具的清理模板结构,更包含一纸钉架,铺设于该清理模板的上方,以防止真空吸孔进料阻塞。
如此,在合模时,上模具的顶出杆受清理模板的框主体压回,使顶出杆总成不致在清模饼压塑过程受沾附,使吸胶块在开模时可以轻易的整块自行退模,受压塑的吸胶块也不致溢出框主体外,且可同时清洁模穴及模具表面的残胶、脏污,进而大幅简化清模程序及提高模具清洁度。
附图说明:
图1是已知压饼式清胶动作示意图。
图2是清理模板与上、下模具的结构示意图。
图3是压模的动作示意图。
图4是开模的动作示意图。
图5是清理模板加设纸钉架的结构示意图。
标号说明:
10.清模饼 11.上模具
12.下模具 13.模穴
14.吸胶块 15.定位块
16.顶出杆 20.上模具
21.模穴 22.定位块
23.顶出杆总成 231.顶出杆
30.下模具 31.定位块
40.清理模板 41.框主体
42.压饼空间 43.开槽
50.吸胶块 60.纸钉架
70.清模饼
具体实施方式:
为使本实用新型的目的、结构特征及其它优点能更被了解,以下兹特举较佳实施例说明,并配合图式详细说明如后。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





