[实用新型]一种旋转甩膜机

说明书

技术领域：

本实用新型涉及的是一种在晶片上能均匀涂膜的设备，尤其是一种旋转甩膜机。

背景技术：

在现有技术中，公知的技术是在用的旋转甩膜机，现有的旋转甩膜机只有吸附基片和使基片旋转的功能，故其功能比较简单，辅助的措施少，不能满足制备各种高质量均匀薄膜的要求，这是现有技术所存在的不足之处。

发明内容：

本实用新型的目的，就是针对现有技术所存在的不足，而提供一种旋转甩膜机技术方案，该方案不但具有基片的吸附和旋转功能，而且还具有控制基片的温度和基片周围的湿度，可实现对涂在基片上的每层薄膜进行烘干，并可避免由于湿度过低导致薄膜出现裂纹的弊病，故保证了所涂薄膜的连续性和致密性。

本方案是通过如下技术措施来实现的：包括有真空泵和机箱，在机箱的面板上有转速显示屏、电源开关、吸片开关、启动开关和调速开关，在机箱内有电机和调速控制器，在机箱外连接有支架，该支架的横梁固定挂有伞形盖，在伞形盖的下方机箱的上顶面对应有环形罩，在环形罩内有片托和测速探头，所述的片托固定在伸出机箱顶面的电机轴上，其特征是：在所述片托的上方有溶液注入管；在环形罩内片托的下方围绕电机轴有一环形加热片；另外，还有一个超声加湿泵，该超声加湿泵的输出通过加湿管与环形罩的内腔相通。在所述的环形罩上连接有排气管与环形罩内腔相通。在所述的环形罩内有温度传感器，在所述的机箱面板上有温度显示屏。

本方案的有益效果可根据对上述方案的叙述得知，由于在该方案中有溶液注入管，可对片托上的基片注入薄膜溶液的注入量进行控制，保证了所制备的薄膜均匀性。在片托的下方有环形加热片，可对片托加热，提高片托上基片的温度，可以对涂在基片上的每层薄膜溶液进行烘干，提高对多层涂膜的工作效率。在环形罩上连接有加湿管，而加湿管又连接超声加湿泵，这就可以保证环形罩内的湿度，对基片周围的空间加湿，可避免由于烘干时水分过渡蒸发使湿度过低导致薄膜出现裂纹的弊病。另外，还有排气管连接在环形罩上，该排气管可将制膜时产生的有害气体排出，维护了工作环境不受污染。这些措施保证了所涂薄膜的均匀性、连续性和致密性，故可制备高性能的功能薄膜，并且具有制膜成本低，薄膜质量高的优点。由此可见，本实用新型与现有技术相比，具有实质性特点和进步，其实施的有益效果也是显而易见的。

附图说明：

图1为本实用新型具体实施方式的结构示意图。

图中，1为电机，2为调速控制器，3为电源开关，4为转速显示屏，5为真空泵，6为机箱，7为排气管，8为支架，9为伞形盖，10为环形罩，11为电机轴，12为片托，13为溶液注入管，14为加湿管，15为超声加湿泵，16为测速探头，17为环形加热片，18为温度显示屏，19为启动开关，20为吸片开关。

具体实施方式：

为能清楚说明本方案的技术特点，下面通过一个具体实施方式，并结合其附图，对本方案进行阐述。

通过附图可以看出，本方案的旋转甩膜机，包括有真空泵5和机箱6，在机箱6的面板上有转速显示屏4、电源开关3、吸片开关20、启动开关19、调速开关(在附图中没有显示)和温度显示屏18。在机箱6内有电机1和调速控制器2，在机箱6外连接有支架8，该支架8的横梁固定挂有伞形盖9，在伞形盖9的下方机箱6的上顶面对应有环形罩10，在环形罩10内有片托12和测速探头16，所述的片托12固定在伸出机箱6顶面的电机轴11上。本方案是在所述片托12的上方有可控制制膜溶液注入量的溶液注入管13。在环形罩10内片托12的下方围绕电机轴11有一可对片托12加热的环形加热片17。在机箱6之外还有一个超声加湿泵15，该超声加湿泵15的输出通过加湿管14与环形罩10的内腔相通，以保障环形罩10内的湿度。在所述的环形罩10上连接有排气管7与环形罩10内腔相通，用于排出在制膜时产生的有害气体。在所述的环形罩10内还有温度传感器(在附图中没有显示)。